公开/公告号CN112925111A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-06-08
原文格式PDF
申请/专利权人 艾普偏光科技(厦门)有限公司;
申请/专利号CN202110053304.4
申请日2021-01-15
分类号G02B30/34(20200101);G02B30/25(20200101);G02B5/18(20060101);G02B5/30(20060101);
代理机构11544 北京金蓄专利代理有限公司;
代理人姚金良
地址 361028 福建省厦门市海沧区后祥南路128号之三第一层A区、第二层、第三层A区、第四层A区、第五层A区
入库时间 2023-06-19 11:19:16
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-10-27
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G02B30/34 专利申请号:2021100533044 申请公布日:20210608
发明专利申请公布后的驳回
机译: 表面浮雕透射型衍射光栅,其中选择光栅线的调制高度和平均间距,以使S和P偏振分量的透射效率为10%
机译: 3个三分光衍射光栅透射型全息元件和使用该光学元件的光学拾取装置
机译: 三光束产生衍射光栅,透射型全息光学元件和使用该光栅的光学头装置