首页> 中国专利> 一种降低卤化物熔盐中氧含量的方法

一种降低卤化物熔盐中氧含量的方法

摘要

本发明公开了一种降低卤化物熔盐中氧含量的方法。该方法包括下述步骤:在真空条件下,对卤化物熔盐进行蒸馏处理;其中,真空条件的真空度为10‑5~103Pa;蒸馏处理中,蒸馏温度高于冷凝温度至少200℃,蒸馏温度为400~1200℃。本发明中降低卤化物熔盐中氧含量的方法可有效降低卤化物熔盐中70%以上的氧含量;处理后的蒸馏产物中氧含量可低至560mg/Kg以下,甚至可低至200mg/Kg以下;且处理效率高,对设备腐蚀性较弱。

著录项

  • 公开/公告号CN112891973A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院上海应用物理研究所;

    申请/专利号CN202110055209.8

  • 发明设计人 耿俊霞;窦强;付海英;李晴暖;

    申请日2021-01-15

  • 分类号B01D3/10(20060101);B01D3/42(20060101);C01B9/02(20060101);C01B9/04(20060101);C01B9/06(20060101);C01B9/08(20060101);

  • 代理机构31283 上海弼兴律师事务所;

  • 代理人王卫彬;邹玲

  • 地址 201800 上海市嘉定区嘉罗公路2019号

  • 入库时间 2023-06-19 11:17:41

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-13

    授权

    发明专利权授予

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号