二维全斯托克斯偏振成像元件及其制备方法

摘要

一种二维全斯托克斯偏振成像元件，属于光学器件，可以用来实现实时偏振成像。由透光基底和位于透光基底上的旋转对称介质结构层构成。其中的介质结构层由四个不同取向的线性光栅和两个不同旋转方向的对称结构阵列构成。该元件可以通过电子束曝光和显影技术以及离子束刻蚀等工艺流程制得。该全斯托克斯偏振成像元件性能优异，在1.54μm波段，对线性偏振光，透过率可以超过92.5％，消光比达到33.57db；圆偏振二色性超过92％。对圆偏振光，偏振透过率大于95％，圆偏振二色性达到94.3％，消光比大于45:1。同时其结构简单，性能优异，易于制作，在光学传感、光学成像等领域具有很大的应用价值。