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一种基于溶剂汽相退火工艺调控阈值电压制备的低压有机薄膜晶体管及其方法

摘要

本发明公开了一种基于溶剂汽相退火工艺调控阈值电压制备的低压有机薄膜晶体管及其方法。该晶体管包括由下到上的p型低阻硅衬底、SiO2层、对称的金电极、并五苯有机薄膜、聚甲基丙烯酸甲酯高分子膜。本发明提出一种通过使用丁酮溶剂进行汽相退火工艺来对并五苯器件进行后处理的方法,用来降低在制作薄膜过程中所带来的界面缺陷,能够显著降低器件的开启电压。处理过程中参数可控,通过调节温度以及装置中的溶剂蒸汽压力,使得实验环境始终保持稳定。该方法对不同沟道长度的器件均有效,具有良好的通用性。

著录项

  • 公开/公告号CN112820831A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-05-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京邮电大学;

    申请/专利号CN202110086375.4

  • 发明设计人 吴长青;孙华斌;朱洪;李润;

    申请日2021-01-21

  • 分类号H01L51/05(20060101);H01L51/40(20060101);

  • 代理机构32204 南京苏高专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人冒艳

  • 地址 210046 江苏省南京市雨花台区软件大道186号

  • 入库时间 2023-06-19 11:02:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-12

    发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):H01L51/05 专利申请号:2021100863754 申请公布日:20210518

    发明专利申请公布后的撤回

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