一种基于GIS和HIPIMS技术的用于凹版印刷板表面CrN涂层制备方法

摘要

本发明公开了一种基于GIS和HIPIMS技术的用于凹版印刷板表面CrN涂层制备方法，本发明采用气体离子源刻蚀清洗技术(Gas Ion Source Etching,GISETCH)和高功率脉冲磁控溅射技术(High Power Impulse MagnetronSputtering，HIPIMS)，在凹版印刷板表面镀制高质量的Cr+CrN涂层，用于取代原有的水电镀工艺。通过球坑测试、粗糙度测试、划痕试验、硬度测试、表面形貌观察等分析涂层各方面的性能后发现，GISETCH和HIPIMS技术制备的Cr+CrN涂层膜基结合力更强，其表面晶粒更细小，缺陷少，断面组织致密，经过实际印刷测试，耐印率超过水电镀水平。