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一种二硒化钯可饱和吸收体薄膜及其制备方法和基于该薄膜的锁模光纤激光器

摘要

本发明属于被动锁模超快光纤激光器技术领域,公开了一种二硒化钯可饱和吸收体薄膜及其制备方法和基于该薄膜的锁模光纤激光器。本发明研究出了一种采用简单硒化的方法在石英衬底上制备PdSe2薄膜的方法,以及基于该材料的掺镱锁模光纤激光器系统的搭建方法。本发明用磁控溅射法在石英衬底上简单硒化制备PdSe2薄膜,然后采用干转移法制备出可以直接用作可饱和吸收体的PdSe2/PS薄膜转移到光纤光路系统中作为可饱和吸收体产生皮秒级的超短脉冲激光。本发明二硒化钯可饱和吸收体薄膜制备方法简单,可实现工业化生产,而且在测试中该材料的超短脉冲序列均匀,性能稳定。

著录项

  • 公开/公告号CN112779500A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-05-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东工业大学;

    申请/专利号CN202011551046.4

  • 发明设计人 胡志万;陶丽丽;

    申请日2020-12-24

  • 分类号C23C14/18(20060101);C23C14/35(20060101);C23C14/58(20060101);H01S3/098(20060101);H01S3/067(20060101);

  • 代理机构44329 广东广信君达律师事务所;

  • 代理人张燕玲

  • 地址 510062 广东省广州市越秀区东风东路729号

  • 入库时间 2023-06-19 10:57:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-05-05

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C14/18 专利申请号:2020115510464 申请公布日:20210511

    发明专利申请公布后的驳回

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