亚微米级金刚石薄膜的化学气相沉积方法及装置

摘要

一种亚微米级金刚石薄膜的微波等离子体化学气相沉积方法及装置；该方法是将籽晶衬底放置在垫盘上，垫盘处于MPCVD设备的生长腔室内，调节生长腔室内压力，运行微波源，调节垫盘温度，随着籽晶衬底的升高，调节垫盘处在生长所需高度；该装置包括垫盘、托盘、石英窗和垫盘运动机构，垫盘、托盘、冷却盘和石英窗由上至下依次设置，垫盘连接在垫盘运动机构的动力输出端；垫盘内设置有加热装置。本发明通过垫盘运动机构调节生长垫盘高度和旋转速率、加热垫盘的方式控制外延薄膜沉积效率，优化各外延区域的沉积速率，随着生长过程中籽晶衬底高度的升高动态调节垫盘的高度并旋转，能保证同一籽晶衬底的生长延续性与均匀性，保证了晶体质量。