一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备及工艺

摘要

本发明涉及一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备及工艺，包括将待纯化的八甲基环四硅氧烷与吸附剂及萃取剂混合，进行吸附‑萃取反应；所述吸附‑萃取反应结束后，静置分层，将上层清液分离至精馏塔中进行精馏提纯，即得到高纯度八甲基环四硅氧烷。本工艺利用极性溶剂更易溶解极性物质的原理，采用极性溶剂从非极性溶剂八甲基环四硅氧烷中萃取金属杂质，并采用吸附剂吸附极性溶剂中的金属杂质，使萃取平衡向极性溶剂中转移，然后再经静置分层，分离出上层八甲基环四硅氧烷。本发明的工艺避免了吸附的金属杂质脱附，从而获得了稳定的金属杂质去除效果，而且还减少了后续精馏的难度，具有节省能耗的优点。