一种多晶PECVD镀膜均匀性优化的方法

摘要

本发明公开了一种多晶PECVD镀膜均匀性优化的方法，属于太阳能电池技术领域。包括以下步骤：预沉积：采用PECVD镀膜设备，在一定的压力和功率下，通入NH3气体，经沉积得镀膜A；沉积第一层SiNx层：在一定的压力和功率下，分别向镀膜A通入SiH4和NH3气体，经沉积得镀膜B；沉积第二层SiNx层：在一定的压力和功率下，分别向镀膜B通入SiH4和NH3气体，经沉积得多晶PECVD镀膜。本发明在常规PECVD设备的基础上，沉积SiNx减反射膜，通过控制两层膜的厚度与折射率，提高对光吸收，利用SiNx物理稳定性，减少光学损失，提高电池效率，优化电池片成品颜色，且本发明不增加生产成本，易于实现。