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基于凹槽阳极结构的AlGaN基双沟道肖特基二极管及制备方法

摘要

本发明涉及一种基于凹槽阳极结构的AlGaN基双沟道肖特基二极管及制备方法,该二极管包括:自下而上依次层叠设置的衬底、缓冲层、沟道层、第一势垒层、超晶格层、第二势垒层和GaN帽层,其中,沟道层和第一势垒层之间形成第一导电沟道,超晶格层与第二势垒层之间形成第二导电沟道;阳极,设置在GaN帽层上,且其底部依次穿过GaN帽层和第二势垒层,位于超晶格层内,阳极与超晶格层形成肖特基接触;阴极,设置在GaN帽层上,且围设在阳极的外周,阴极与阳极之间存在间距,阴极与GaN帽层形成欧姆接触。本发明的基于凹槽阳极结构的AlGaN基双沟道肖特基二极管,增加了导电沟道,进一步提高了电子浓度,减少导通电阻。

著录项

  • 公开/公告号CN112768512A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN202110045034.2

  • 申请日2021-01-13

  • 分类号H01L29/40(20060101);H01L29/20(20060101);H01L29/06(20060101);H01L29/872(20060101);H01L21/329(20060101);

  • 代理机构61230 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘长春

  • 地址 710000 陕西省西安市雁塔区太白南路2号

  • 入库时间 2023-06-19 10:54:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-07-21

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L29/40 专利申请号:2021100450342 申请公布日:20210507

    发明专利申请公布后的驳回

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