公开/公告号CN112729016A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-04-30
原文格式PDF
申请/专利权人 西安航天远征流体控制股份有限公司;
申请/专利号CN202011605347.0
申请日2020-12-30
分类号F41J7/00(20060101);F41J7/06(20060101);F41J1/10(20060101);F41J5/14(20060101);F41J5/04(20060101);
代理机构61216 西安恒泰知识产权代理事务所;
代理人史玫
地址 710100 陕西省西安市航天基地067大院2区B幢214号
入库时间 2023-06-19 10:49:34
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-11
专利申请权的转移 IPC(主分类):F41J 7/00 专利申请号:2020116053470 登记生效日:20221101 变更事项:申请人 变更前权利人:西安航天远征流体控制股份有限公司 变更后权利人:西安航天动力研究所 变更事项:地址 变更前权利人:710100 陕西省西安市航天基地067大院2区B幢214号 变更后权利人:710000 陕西省西安市航天基地飞天路289号 变更事项:申请人 变更前权利人: 变更后权利人:西安航天远征流体控制股份有限公司
专利申请权、专利权的转移
机译: 用于通过溅射涂覆移动基板的管磁控管装置,包括连续点燃旋转管靶的靶表面上的等离子体,该靶被切换为阴极并且使用布置在管靶附近的阳极
机译: 面靶型溅射装置及面靶型溅射方法
机译: 一种用于安装和拆卸靶的装置,用于该装置的靶,随该装置提供的源以及在真空下与源一起的靶和处理室。