标尺、光罩及判断阵列基板边缘曝光是否合规的方法

摘要

本申请提供一种标尺、光罩及判断阵列基板边缘曝光是否合规的方法，标尺包括基准刻度线、参照刻度线、第一识别图案以及第二识别图案，第一识别图案位于基准刻度线的一侧，第二识别图案位于参照刻度线的一侧，第一识别图案和第二识别图案相对于基准刻度线和参照刻度线位于相同侧，并将该标尺应用于光罩的挡板处以及阵列基板的边缘曝光区域，通过测试识别装置识别读取第一识别图案和第二识别图案，来判断挡板的透光区或阵列基板的边缘曝光区域的曝光情况是否合规，从而减少人工误读，实现阵列基板的边缘曝光区域的洗边精度和挡板精度的实时监控，提升产品工艺生产周期。