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一种高浓度钼掺杂三氧化钨光催化纳米材料及其制备方法

摘要

本发明属于材料制备技术领域,公开了一种高浓度钼掺杂三氧化钨光催化纳米材料及其制备方法,所述高浓度钼掺杂三氧化钨光催化纳米材料按照质量份数计,由三氧化钨8~12份、钼酸钠6~7份、石墨2~4份、去离子水23~30份、盐酸8~11份、硝酸4~5份、乙二醇5~8份组成。本发明制备的高浓度钼掺杂三氧化钨为光催化纳米材料,可降低原三氧化钨材料中的电子空穴复合率,能增强其在光催化反应中对太阳光谱的吸收宽度,提高光催化反应对太阳光的利用率,并提高光催化降解有机物的效率。同时,本发明通过改变催化剂的结构提高其光催化性能,钼负载中孔三氧化钨能够用有效的利用可见光,拓展了三氧化钨的光响应范围。

著录项

  • 公开/公告号CN112642420A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湖南工业大学;

    申请/专利号CN202011528488.7

  • 申请日2020-12-22

  • 分类号B01J23/28(20060101);B01J23/30(20060101);B82Y30/00(20110101);B82Y40/00(20110101);C02F1/30(20060101);C02F101/30(20060101);

  • 代理机构50230 重庆市信立达专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人陈炳萍

  • 地址 412000 湖南省株洲市天元区泰山路88号

  • 入库时间 2023-06-19 10:36:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-10-27

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B01J23/28 专利申请号:2020115284887 申请公布日:20210413

    发明专利申请公布后的驳回

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