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分析设备、分析方法、干涉测量系统和存储介质

摘要

本发明涉及一种分析设备、分析方法、干涉测量系统和存储介质。该分析设备(200)包括:获取部(210),其从干涉测量设备获取基于参考面(132)和测量对象物体(10)的表面之间的多个光路长度的多个干涉图像;计算部(230),其分别计算多个干涉图像中的各像素的干涉信号的正弦波分量和余弦波分量;误差检测部(240),其检测基于各像素的正弦波分量和余弦波分量所构成的第一利萨如图形与理想的第二利萨如图形之间的误差;校正部(250),其基于该误差来校正各像素的正弦波分量和余弦波分量;以及几何形状计算部(260),其基于校正后的正弦波分量和余弦波分量来计算测量对象物体(10)的表面几何形状。

著录项

  • 公开/公告号CN112629434A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社三丰;

    申请/专利号CN202011037038.8

  • 发明设计人 松浦心平;

    申请日2020-09-28

  • 分类号G01B11/24(20060101);G01B9/02(20060101);

  • 代理机构11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘新宇

  • 地址 日本神奈川县

  • 入库时间 2023-06-19 10:33:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B11/24 专利申请号:2020110370388 申请日:20200928

    实质审查的生效

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