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用于运输第一载体及第二载体的设备、用于垂直处理基板的处理系统及用于其的方法

摘要

描述了一种用于在真空腔室(210)中运输第一载体(10A)及第二载体(10B)的设备(100)。设备(100)包括第一运输系统(101),包括用于非接触地保持第一载体(10A)的多个磁性轴承(120)及沿着第一运输路径(T1)移动第一载体(10A)的驱动单元(130),磁性轴承(120)及驱动单元(130)布置于第一载体运输空间(15A)的上方。此外,设备(100)包括与第一运输系统(101)水平偏移的第二运输系统(102),并包括用于非接触地保持第二载体(10B)的多个另外的磁性轴承(120B)及沿着第二运输路径(T2)移动第二载体(10B)的另外的驱动单元(130B),其中另外的磁性轴承(120B)相邻于磁性轴承(120)布置。再者,描述了一种用于垂直处理基板的处理系统及用于其的方法。

著录项

  • 公开/公告号CN112640073A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201880096957.7

  • 申请日2018-08-29

  • 分类号H01L21/67(20060101);H01L21/677(20060101);

  • 代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国;赵静

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 10:32:14

说明书

技术领域

本公开内容的实施方式有关于用于运输多个载体的设备及方法,此些载体特别是在大面积基板的处理期间所使用的载体。更特别是,本公开内容的实施方式有关于用于可应用于垂直基板处理的处理系统(例如用于显示器制造的大面积基板上的材料沉积)中的用于非接触运输载体的设备及方法。特别是,本公开内容的实施方式有关于在垂直基板处理系统中运输第一载体及第二载体的的设备,例如用于有机发光二极管(organic light-emitting diode,OLED)装置的制造。

背景技术

用于基板上的层沉积的技术包括例如溅射沉积、物理气相沉积(physical vapordeposition,PVD)、化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)及热蒸发。已涂布的基板可使用于各种应用中及各种技术领域中。举例来说,已涂布的基板可使用于显示器装置的领域中。显示器装置可用来制造电视屏幕、电脑屏幕、移动电话、其他手持装置、及用于显示信息的类似者。一般来说,通过使用不同材料层的堆叠涂布基板来制造显示器。

举例来说,已涂布的基板可使用于有机发光二极管(OLED)装置的领域中。OLED可用来制造电视屏幕、电脑屏幕、移动电话、其他手持装置、及例如用于显示信息的类似者。诸如OLED显示器的OLED装置可包括位于沉积于基板上的两个电极之间的一个或多个有机材料层。

在沉积涂布材料于基板上期间,基板可由基板载体保持,且掩模可由掩模载体保持于基板的前方。对应于掩模的开孔图案的材料图案(例如多个像素)可例如通过材料蒸发来沉积于基板上。

OLED装置的功能一般取决于应在预定范围中的涂布材料的准确性及有机材料的厚度。为了取得高分辨率的OLED装置,需要掌握有关于已蒸发材料的沉积的技术挑战。特别是,准确及平顺运输承载基板的基板载体和/或承载掩模的掩模载体通过真空系统是具有挑战性的。再者,对实现(例如用于制造高分辨率的OLED装置的)高品质的沉积结果来说,有关于在真空条件下相对于掩模载体的基板载体的精准操控是重要的。。

因此,对于克服现有技术的至少一些问题的用于载体运输的改善的设备及方法,以及提供改善的真空处理系统有着持续的需求。

发明内容

有鉴于上述,提出了根据独立权利要求的一种用于在真空腔室中运输第一载体及第二载体的设备、一种用于垂直地处理基板的处理系统、一种在真空腔室中运输第一载体及第二载体的方法及一种在真空腔室中调整第一载体及第二载体之间的距离的方法。其他方面、优点、及特征通过从属权利要求、说明书、及附图而显而易见。

根据本公开内容的一个方面,提出一种用于在真空腔室中运输第一载体及第二载体的设备。此设备包括第一运输系统,该第一运输系统沿着第一运输路径设置并包括第一上轨道区段。第一上轨道区段包括一个或多个磁性轴承,用于在第一载体运输空间中非接触地保持第一载体。此一个或多个磁性轴承居中布置于将运输的第一载体的重心的上方。此外,第一上轨道区段包括驱动单元,用于沿着第一运输路径移动第一载体。此一个或多个磁性轴承及驱动单元布置于第一载体运输空间的上方。再者,设备包括第二运输系统,该第二运输系统沿着与第一运输路径水平地偏移的第二运输路径设置并包括第二上轨道区段。第二上轨道区段包括一个或多个另外的磁性轴承,用于在第二载体运输空间中非接触地保持第二载体。此一个或多个另外的磁性轴承居中布置于将运输的第二载体的重心的上方。此外,第二上轨道区段包括另外的驱动单元,用于沿着第二运输路径移动第二载体。此一个或多个另外的磁性轴承及此另外的驱动单元布置于第二载体运输空间的上方。第二上轨道区段的此一个或多个另外的磁性轴承相邻于第一上轨道区段的此一个或多个磁性轴承布置。

根据本公开内容的其他方面,提出一种用于垂直地处理基板的处理系统。处理系统包括至少一个真空腔室,包括处理装置。再者,处理系统包括根据本文描述的任何实施方式的用于运输第一载体及第二载体的设备。

根据本公开内容的另一方面,提出一种在真空腔室中运输第一载体及第二载体的方法。此方法包括利用一个或多个磁性轴承在第一载体运输空间中非接触地保持第一载体。此一个或多个磁性轴承居中布置于将运输的第一载体的重心的上方。此外,此方法包括利用一个或多个另外的磁性轴承在第二载体运输空间中非接触地保持第二载体。此一个或多个另外的磁性轴承居中布置于将运输的第二载体的重心的上方。此一个或多个另外的磁性轴承相邻于此一个或多个磁性轴承布置。再者,此方法包括利用布置于第一载体运输空间的上方的驱动单元在运输方向中运输第一载体。再者,此方法包括利用布置于第二载体运输空间的上方的另外的驱动单元在运输方向中运输第二载体。

根据本公开内容的另一方面,提出一种在真空腔室中调整第一载体及第二载体之间的距离的方法。此方法包括提供用于运输第一载体及第二载体的设备。此设备包括第一运输系统,该第一运输系统沿着第一运输路径设置并包括第一上轨道区段。第一上轨道区段包括一个或多个磁性轴承,用于在第一载体运输空间中非接触地保持第一载体。此一个或多个磁性轴承居中布置于将运输的第一载体的重心的上方。此外,第一上轨道区段包括驱动单元,用于沿着第一运输路径移动第一载体。此一个或多个磁性轴承及驱动单元布置于第一载体运输空间的上方。再者,设备包括第二运输系统,该第二运输系统沿着与第一运输路径水平地偏移的第二运输路径设置并包括第二上轨道区段。第二上轨道区段包括一个或多个另外的磁性轴承,用于在第二载体运输空间中非接触地保持第二载体。此一个或多个另外的磁性轴承居中布置于将运输的第二载体的重心的上方。此外,第二上轨道区段包括另外的驱动单元,用于沿着第二运输路径移动第二载体。此一个或多个另外的磁性轴承及此另外的驱动单元布置于第二载体运输空间的上方。第二上轨道区段的此一个或多个另外的磁性轴承相邻于第一上轨道区段的此一个或多个磁性轴承布置。此外,设备包括第二载体运输组件,用于在第二载体运输方向中从第二运输路径朝向第一运输路径移动第二载体。第二载体运输组件包括第二运输致动器,该第二运输致动器设置于大气空间中,特别是设置在真空腔室的外侧或大气箱中。再者,在真空腔室中调整第一载体及第二载体之间的距离的方法包括利用第二运输致动器在第二载体运输方向中从第二运输路径朝向第一运输路径移动第二载体。或者,在真空腔室中调整第一载体及第二载体之间的距离的方法包括利用第二运输致动器在第二载体运输方向中从第二运输路径移动第二载体远离第一运输路径。

实施方式亦涉及用于实施所公开方法的设备,且包括用于执行各个所描述的方法方面的设备部件。此些方法方面可通过硬件元件、由合适软件编程的计算机、两者的任何组合或任何其他方式执行。再者,根据本公开内容的实施方式亦涉及用于操作所描述设备的方法。用于操作所描述设备的此些方法包括用于执行设备的各功能的方法方面。

附图说明

为了使本公开内容的上述特征可详细地了解,可参考实施方式来获得简要概括于上的本公开内容的更详细的说明。所附附图有关于本公开内容的实施方式且说明于下文中:

图1绘示根据本文所述实施方式的用于在真空腔室中运输第一载体及第二载体的设备的示意图;

图2及图3A绘示根据本文所述其他实施方式的用于在真空腔室中运输第一载体及第二载体的设备的示意图;

图3B绘示根据本文所述实施方式的用于在真空腔室中运输第一载体及第二载体的设备的上部的侧视图;

图4绘示根据本文所述其他实施方式的用于在真空腔室中运输第一载体及第二载体的设备的上部的示意图;

图5绘示根据本文所述实施方式的用于垂直地处理基板的处理系统的示意图;

图6绘示根据本文所述实施方式的在真空腔室中运输第一载体及第二载体的方法的流程图;以及

图7绘示根据本文所述实施方式的在真空腔室中调整第一载体及第二载体之间的距离的方法的流程图。

具体实施方式

将详细参照本公开内容的各种实施方式,这些实施方式的一个或多个示例绘示于附图中。在下方附图说明中,相同附图标记意指相同元件。仅描述有关于个别实施方式的差异。各示例被提供以解释本公开内容且不意味对本公开内容的限制。再者,作为一个实施方式的部分所说明或描述的特征可用于其他实施方式或与其他实施方式结合,以获得进一步的实施方式。本说明书意欲包括此些调整及变化。

示例性参照图1,描述了根据本公开内容的用于在真空腔室210中运输第一载体10A及第二载体10B的设备100。举例来说,真空腔室210可为本文描述的用于垂直处理基板的处理系统200的真空腔室。用于运输第一载体及第二载体的设备也可在本文称为运输设备。

根据可与本文描述的任何其他实施方式结合的实施方式,设备100包括第一运输系统101,第一运输系统101在运输方向T中沿着第一运输路径T1设置。运输方向T垂直于图1的纸面。第一运输系统101包括第一上轨道区段11U。第一上轨道区段11U包括一个或多个磁性轴承120,一个或多个磁性轴承120用于在第一载体运输空间15A中非接触地保持第一载体10A。一个或多个磁性轴承120居中布置于将运输的第一载体10A的重心G1的上方。此外,第一上轨道区段11U包括驱动单元130,驱动单元130用于沿着第一运输路径T1移动第一载体10A。一个或多个磁性轴承120及驱动单元130布置于第一载体运输空间15A的上方。

此外,设备100包括第二运输系统102,第二运输系统102沿着与第一运输路径T1水平地偏移的第二运输路径T2设置,并包括第二上轨道区段14U。第二上轨道区段14U包括一个或多个另外的磁性轴承120B,一个或多个另外的磁性轴承120B用于在第二载体运输空间15B中非接触地保持第二载体10B。一个或多个另外的磁性轴承120B居中布置于将运输的第二载体10B的重心G2的上方。再者,第二上轨道区段14U包括另外的驱动单元130B,另外的驱动单元130B用于沿着第二运输路径T2移动第二载体10B。一个或多个另外的磁性轴承120B及另外的驱动单元130B布置于第二载体运输空间15B的上方。如图1中示例地绘示,一个或多个另外的磁性轴承120B相邻于一个或多个磁性轴承120布置。

因此,相较于传统的载体运输设备,本文描述的用于运输第一载体及第二载体的设备的实施方式特别是在有关于紧凑度(compactness)及有关于在真空腔室中准确及平顺运输载体方面有所改善,例如,在真空腔室中提供高温度的真空环境。再者,相较于传统的载体运输设备,本文描述的实施方式有利地在更低的制造成本下提供更稳健(robust)的非接触载体运输。特别是,本文描述的用于运输载体的设备的实施方式对制造公差、变形、及热膨胀更不敏感。再者,有利地提出用于运输第一载体及第二载体至真空腔室中的设备的更简单的整合。

在更详细地描述本公开内容的其他实施方式之前,解释有关于本文所使用的一些术语的一些方面。

于本公开内容中,“载体运输空间”可理解为载体在载体运输期间沿着运输路径在运输方向中所布置的区域。特别是,如图1中示例地绘示,载体运输空间可为垂直的载体运输空间,其具有在垂直方向中延伸的高度H及在水平方向中延伸的宽度W。举例来说,H/W的深宽比可为H/W≥5,特别是H/W≥10。除非明确地说明,本文所使用的术语“载体运输空间”可称为本文描述的第一载体运输空间和/或第二载体运输空间。

示例性参照图1,将理解的是,本文描述的“上轨道区段”有利地提供用于非接触地运输载体的磁性悬浮系统。如图1中所示,第一载体10A非接触地保持于上腔室壁212及底腔室壁211之间的第一载体运输空间15A中。第二载体10B非接触地保持于上腔室壁212及底腔室壁211之间的第二载体运输空间15B中。特别是,上腔室壁212可为真空腔室的顶板。因此,底腔室壁211可为真空腔室的底壁。

参照图1,于本公开内容中,表述“居中布置于载体的重心的上方”可理解为延伸通过载体的重心G的垂直平面111也延伸通过磁性轴承。也就是说,延伸通过载体(例如第一载体10A或第二载体10B)的重心G的垂直平面111可与各自的磁性轴承(例如一个或多个磁性轴承120或一个或多个另外的磁性轴承120B)相交。特别是,垂直平面111可与各自的磁性轴承的中心大致相交。表述“与各自的磁性轴承的中心大致相交”可理解为垂直平面111在与各自的磁性轴承的中心相距某一横向距离处与磁性轴承相交。特别是,垂直平面111可以在与各自的磁性轴承的中心存在横向偏移的情况下(即,在与各自的磁性轴承的中心相距横向距离的位置处)与磁性轴承相交。术语“横向偏移”可理解为在各自的磁性轴承的横向边缘的方向中从各自的磁性轴承的中心横向偏移。因此,与各自的磁性轴承的中心准确地相交的垂直平面111具有距离各自的磁性轴承的中心的0%的横向偏移。与各自的磁性轴承的边缘准确地相交的垂直平面111具有距离各自的磁性轴承的中心的100%的横向偏移。根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式,与各自的磁性轴承的中心相交的垂直平面111的横向偏移可为±75%,特别是±50%,更特别是±25%,更特别是±10%。根据一个示例,垂直平面111可表示各自的磁性轴承的对称平面。如图1中示例地绘示,本文描述的驱动单元可相对于各自的磁性轴承横向地布置。

于本公开内容中,“磁性悬浮系统”可理解为经构造以用于通过利用磁力以非接触方式保持物体(例如载体)的系统。于本公开内容中,术语“悬浮(levitating或levitation)”意指物体(例如承载基板或掩模的载体)的状态,其中物体浮动而没有机械接触或支撑。再者,移动或运输物体意指提供驱动力,例如在不同于悬浮力方向的方向中的力,其中物体从一个位置移动至另一个、不同的位置,例如沿着运输方向的不同位置。举例来说,承载基板或掩模的载体可被悬浮,即,借助抵抗重力的力被悬浮,并可在悬浮时在与平行于重力的方向不同的方向中移动。

于本公开内容中,术语“非接触”可理解为重量(例如载体的重量,特别是承载基板或掩模的载体的重量)不由机械接触或机械力保持但由磁力保持的含义。也就是说,本说明书通篇所使用的术语“非接触”可被理解为利用磁力取代机械力(即,接触力)来以悬浮或浮动状态保持载体。

于本公开内容中,“载体”可理解为经构造以用于保持基板的载体,也称为基板载体。举例来说,载体可为用于承载大面积基板的基板载体。将理解的是,用于载体运输的设备的实施方式也可使用于其他载体形式,例如掩模载体。因此,额外地或替代地,载体可以是经构造以用于承载掩模的载体。特别是,本文描述的第一载体10A可为例如承载基板1的基板载体,并且本文描述的第二载体10B可为例如承载掩模2的掩模载体。基板载体的尺寸可不同于掩模载体的尺寸。举例来说,基板载体的高度和/或宽度可大于掩模载体的高度和/或宽度。或者,基板载体的高度和/或宽度可小于掩模载体的高度和/或宽度。再者,将理解的是,除非明确地陈述于本公开内容中,本文所使用的术语“载体”可意指本文描述的第一载体和/或第二载体。

于本公开内容中,术语“基板”可特别是包括实质上非柔性的基板,例如晶片、诸如蓝宝石或类似者的透明水晶片、或玻璃板材。然而,本公开内容不以此为限,且术语“基板”也可包含柔性基板,例如是卷材(web)或箔。术语“实质上非柔性”被理解为与“柔性”有所区别。特别是,实质上非柔性基板的柔性可具有一定程度的柔性,例如具有0.5mm或以下的厚度的玻璃板材,其中实质上非柔性基板的柔性比柔性基板的柔性小。根据本文描述的实施方式,基板可由适合用于材料沉积的任何材料制成。举例来说,基板可以由选自以下项构成的群组的材料制成:玻璃(例如钠钙玻璃(soda-lime glass)、硼硅玻璃(borosilicateglass)等)、金属、聚合物、陶瓷、化合物材料、碳纤维材料或可由沉积处理进行涂布的任何其他材料或材料的组合。

于本公开内容中,术语“大面积基板”意指具有0.5m

于本公开内容中,“运输系统”可理解为经构造以用于沿着运输路径在运输方向中运输载体的系统。术语“运输方向”可理解为载体沿着运输路径所运输的方向。一般来说,运输方向可为本质上水平方向。

于本公开内容中,“上轨道区段”可理解为本文描述的运输系统的上部,包括一个或多个磁性轴承及驱动单元。

于本公开内容中,“磁性轴承”可理解为经构造以用于以非接触方式(即,无物理接触)保持或支撑物体(例如本文描述的载体)的轴承。因此,本文描述的一个或多个磁性轴承可经构造以产生作用于载体上的磁力,使得载体非接触地保持于距离基座结构(例如图1中所示的上腔室壁212)的预定距离处。特别是,一个或多个磁性轴承120可经构造以产生在本质上垂直方向V中作用的磁力,使得上腔室壁212及本文描述的载体之间的缝隙122的垂直宽度可维持基本固定。

于本公开内容中,“驱动单元”可理解为经构造以用于在运输方向中以非接触方式移动物体(例如本文描述的载体)的单元。特别是,本文描述的驱动单元可经构造以产生在运输方向中作用于载体上的磁力。因此,驱动单元可为线性马达。举例来说,线性马达可为铁芯式线性马达。或者,线性马达可为无铁式线性马达。无铁式线性马达可有利地避免由于载体的被动磁性元件及线性马达的铁芯的可能相互作用而导致的垂直力在载体上所产生的扭矩。

本文描述的一些实施方式包含“垂直方向”的概念。垂直方向视为与沿着重力延伸方向实质平行的方向。垂直方向可偏离精确垂直(后者由重力定义)例如高达15度的角度。再者,本文描述的一些实施方式可包含“横向方向”的概念。横向方向被理解为与垂直方向有所区别。横向方向可为垂直或实质上垂直于重力所定义的准确垂直方向。

示例性参照图1,根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式,一个或多个磁性轴承120及一个或多个另外的磁性轴承120B相对于对称平面105镜像对称布置。对称平面105位于第一载体运输空间15A及第二载体运输空间15B之间。特别是,对称平面105为垂直平面。

示例性参照图1,根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式,驱动单元130及另外的驱动单元130B相对于对称平面105镜像对称布置。一般来说,驱动单元130至对称平面105的横向距离大于一个或多个磁性轴承120至对称平面105的横向距离。再者,另外的驱动单元130B至对称平面105的横向距离一般大于一个或多个另外的磁性轴承120B至对称平面105的横向距离。

示例性参照图1,将理解的是,驱动单元130至对称平面105的横向距离一般实质上对应于(特别是等于)另外的驱动单元130B至对称平面105的横向距离。因此,一个或多个磁性轴承120至对称平面105的横向距离一般实质上对应于(特别是等于)一个或多个另外的磁性轴承120B至对称平面105的横向距离。

示例性参照图1,根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式,一个或多个磁性轴承120包括用于非接触保持的一个或多个第一致动器121。驱动单元130可包括一个或多个第二致动器132,一个或多个第二致动器132用于沿着第一运输路径T1移动第一载体10A。再者,一个或多个另外的磁性轴承120B可包括用于非接触地保持第二载体10B的一个或多个第三致动器121B。另外的驱动单元130B可包括一个或多个第四致动器132B,一个或多个第四致动器132B用于沿着第二运输路径T2移动第二载体10B。

于本公开内容中,一个或多个磁性轴承的“第一致动器”可理解为磁性轴承的主动及可控制元件。因此,一个或多个另外的磁性轴承的“第三致动器”可理解为磁性轴承的主动及可控制元件。特别是,一个或多个第一致动器和/或一个或多个第三致动器可包括诸如电磁体的可控制磁体。一个或多个第一致动器和/或一个或多个第三致动器的磁场可以是主动可控的,用于分别维持和/或调整上腔室壁212和载体(例如第一载体和/或第二载体)之间的距离。也就是说,一个或多个磁性轴承的“第一致动器”和/或一个或多个另外的磁性轴承的“第三致动器”可理解为具有可控制及可调整的磁场的元件,以提供作用于各自的载体(例如第一载体和/或第二载体)上的磁性悬浮力。

一个或多个第二致动器132和/或一个或多个第四致动器132B可为一个或多个可控制磁体,例如电磁体。因此,一个或多个第二致动器132和/或一个或多个第四致动器132B可为主动可控的,用于在运输方向中在载体上施加移动力。如图1中示例地绘示,一个或多个第二磁性配对件182可布置在第一载体10A和/或第二载体10B处,特别是布置在第一载体10A和/或第二载体10B的上部。载体(例如第一载体10A和/或第二载体10B)的一个或多个第二磁性配对件182可分别与驱动单元130的一个或多个第二致动器132和/或另外的驱动单元130B的一个或多个第四致动器132B磁性地相互作用。特别是,一个或多个第二磁性配对件182可为被动磁性元件。举例来说,一个或多个第二磁性配对件182可由磁性材料制成,例如铁磁材料、永久磁体或可具有永久磁体性质。

根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式,一个或多个第一致动器121、一个或多个第二致动器132、一个或多个第三致动器121B及一个或多个第四致动器132B可布置在大气空间中。表述“大气空间”可理解为具有大气压力条件的空间,也就是大约1.0bar。举例来说,大气空间可以是提供于真空腔室的外侧的空间。或者,大气空间可通过设置于真空腔室的内侧的大气箱或大气容器(未明确绘示)提供。

示例性参照图1,根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式,一个或多个第一致动器121、一个或多个第二致动器132、一个或多个第三致动器121B、及一个或多个第四致动器132B可附接于上腔室壁212的外侧表面,特别是真空腔室210的上腔室壁212的外侧表面。因此,得益于一个或多个磁性轴承的主动元件布置于容易够到的位置来用于安装和/或维护,这致使成本缩减。根据一个示例,上腔室壁212的外侧表面可包括容纳部,用于容纳一个或多个第一致动器121、一个或多个第二致动器132、一个或多个第三致动器121B、及一个或多个第四致动器132B,如图1中示例地绘示。

将理解的是,一个或多个第一致动器121经构造以用于非接触地保持第一载体10A,并且一个或多个第三致动器121B经构造以用于非接触地保持第二载体10B。如图1中所示例地绘示,一个或多个第一磁性配对件181可布置于第一载体10A和/或第二载体10B处,特别是布置在第一载体10A和/或第二载体10B的顶部。第一载体10A的一个或多个第一磁性配对件181可与一个或多个磁性轴承120的一个或多第一致动器121磁性地相互作用。第二载体10B的一个或多个第一磁性配对件181可与一个或多个另外的磁性轴承120B的一个或多个第三致动器121B磁性地相互作用。特别是,一个或多个第一磁性配对件181可以是被动磁性元件。举例来说,一个或多个第一磁性配对件181可以由磁性材料制成,例如铁磁材料、永久磁体或可具有永久磁性性质。

举例来说,输出参数(例如施加至一个或多个第一致动器的电流)可根据输入参数(例如上腔室壁212及第一载体10A之间的距离)来进行控制。举例来说,上腔室壁212及第一载体10A之间的距离(例如图1中所示的缝隙122)可通过距离传感器来进行测量,并且一个或多个第一致动器的磁场强度可根据所测量的距离进行设定。特别是,在高于预定阈值的距离的情况下,磁场强度可增加,并且在低于阈值的距离的情况下,磁场强度可减少。一个或多个第一致动器可以通过闭环或反馈控制进行控制。

类似地,输出参数(例如施加至一个或多个第三致动器的电流)可根据输入参数(例如上腔室壁212及第二载体10B之间的距离)来进行控制。举例来说,上腔室壁212及第二载体10B之间的距离(例如图1中所示的缝隙122)可通过距离传感器来进行测量,并且一个或多个第三致动器的磁场强度可根据所测量的距离进行设定。特别是,在高于预定阈值的距离的情况下,磁场强度可增加,并且在低于阈值的距离的情况下,磁场强度可减少。一个或多个第三致动器可以通过闭环或反馈控制进行控制。

示例性参照图1,根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式,设备100更包括第一下轨道区段11L及第二下轨道区段14L。第一下轨道区段11L包括第一非接触引导布置140A,第一非接触引导布置140A用于沿着第一运输路径T1引导第一载体10A。第二下轨道区段14L包括第二非接触引导布置140B,第二非接触引导布置140B用于沿着第二运输路径T2引导第二载体10B。

于本公开内容中,“下轨道区段”可理解成本文描述的运输系统的下部。一般来说,下轨道区段布置在与上轨道区段相距垂直距离处。特别是,下轨道区段可包括本文描述的非接触引导布置,用于在运输方向T中引导第一载体10A和/或第二载体10B。

示例性参照图1,根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式中,第一下轨道区段11L及第二下轨道区段14L在垂直方向V中是可移动的。特别是,设备可包括致动器124。致动器124耦接于第一下轨道区段11L及第二下轨道区段14L,用于调整第一下轨道区段11L及第一上轨道区段11U之间的距离,以及用于调整第二下轨道区段14L及第二上轨道区段14U之间的距离。

如图1中示例地绘示,根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式,第一非接触引导布置140A和/或第二非接触引导布置140B可包括一个或多个被动磁性轴承125。特别是,如图1中示例地绘示,一个或多个被动磁性轴承125可垂直地布置。因此,一个或多个被动磁性轴承125经构造以用于提供在水平方向(特别是横向方向L)中作用于各自的载体(特别是第一载体10A和/或第二载体10B)上的磁力,如图1中示例地绘示。

举例来说,如图1中示例地绘示,一个或多个被动磁性轴承125可通过平行布置的垂直的被动磁性元件来提供。一般来说,布置有至少两个被动磁性元件,以提供用于各自的载体(特别是第一载体10A和/或第二载体10B)的第三磁性配对件183的容纳部。因此,在存在载体的情况下,第三磁性配对件183布置在一个或多个被动磁性轴承125的相对布置的被动磁性元件之间。一般来说,第三磁性配对件183包括被动磁性元件。于图1中,被动磁性元件的北极N部由阴影图案所表示。被动磁性元件的南极部由相邻于北极N部的空白元件所表示。

如图1中示例地绘示,一个或多个被动磁性轴承125及第三磁性配对件183的被动磁性元件一般被布置为使得第三磁性配对件183的被动磁性元件的南极部面对一个或多个被动磁性轴承125的被动磁性元件的南极部(绘示于图1中的第一非接触引导布置140A的右侧及第二非接触引导布置140B的左侧)。因此,第三磁性配对件183的被动磁性元件的北极部可面对一个或多个被动磁性轴承125的被动磁性元件的北极部(绘示于图1中的第一非接触引导布置140A的左侧及第二非接触引导布置140B的右侧)。因此,一个或多个被动磁性轴承125及第三磁性配对件183的被动磁性元件可被布置为使得排斥磁力作用于第三磁性配对件183的被动磁性元件及一个或多个被动磁性轴承125的被动磁性元件之间。虽然未明确绘示,将理解的是,替代地,一个或多个被动磁性轴承125及第三磁性配对件183的被动磁性元件可被布置为使得吸引磁力作用于第三磁性配对件183的被动磁性元件及一个或多个被动磁性轴承125的被动磁性元件之间。

如图1至图3中所示,第一非接触引导布置140A及第二非接触引导布置140B可连接于共同支撑结构145。共同支撑结构145可耦接于致动器124,用于调整下轨道区段及上轨道区段之间的距离。再者,可设置保护波纹管174,用于确保致动器124的可移动元件及真空腔室之间的真空密封,如图3A中所示。

根据如图2中示例地绘示的非接触引导布置的替代构造,一个或多个被动磁性轴承125可设置在共同支撑结构145的用于第一非接触引导布置140A及第二非接触引导布置140B的容纳部中。特别是,根据替代的构造,一个或多个被动磁性轴承125布置在各自的载体的第三磁性配对件183的下方。

因此,可有利地提供载体的非接触横向引导。再者,值得注意的是,提供被动引导布置特别适于以低成本在高温真空环境中提供稳健的载体运输。

于本公开内容中,“被动磁性轴承”可理解为就有被动磁性元件的轴承,其至少在设备的操作期间未受到主动控制或调整。特别是,被动磁性轴承可适于产生磁场,例如静态磁场。也就是说,被动磁性轴承可不被构造来产生可调整的磁场。举例来说,一个或多个被动磁性轴承的磁性元件可以由磁性材料制成,例如铁磁材料、永久磁体或可具有永久磁性性质。

因此,本文所使用的“被动磁性元件”或“被动磁体”可理解成例如不经由反馈控制来主动地控制的磁体。举例来说,没有根据诸如距离的输入参数来控制的诸如被动磁体的磁场强度的输出参数。“被动磁性元件”或“被动磁体”反而可提供载体的无需任何反馈控制的侧向稳定。举例来说,本文描述的“被动磁性元件”或“被动磁体”可包括一个或多个永久磁体。“被动磁性元件”或“被动磁体”可替代地或额外地包括可不主动控制的一个或多个电磁体。

因此,将理解的是,第一运输系统101可为磁性悬浮系统,包括第一上轨道区段11U及第一下轨道区段11L。第一上轨道区段11U是固定的,第一下轨道区段11L在垂直方向V中是可移动的。因此,第二运输系统102可为磁性悬浮系统,包括第二上轨道区段14U及第二下轨道区段14L。第二上轨道区段14U是固定的,第二下轨道区段14L在垂直方向V中是可移动的。

示例性参照图3A,根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式,设备100可更包括第一载体运输组件150A,用于在第一载体运输方向S1中移动第一载体10A离开第一运输路径T1。第一载体运输组件150A一般包括第一运输致动器154A。第一运输致动器154A设置于大气空间中,特别是设置于真空腔室的外侧或大气箱中。

于本公开内容中,“第一载体运输组件”可理解为经构造以在彼此横向偏移的不同运输路径之间移动第一载体(特别是基板载体)的组件。特别是,第一载体运输组件一般经构造以用于在第一载体运输方向S1中横向地移动第一载体,例如用于切换第一载体的路径。示例性参照图3A,将理解的是,术语“第一载体运输方向S1”可理解为水平方向,特别是垂直于运输方向T。

示例性参照图3A,根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式,第一载体运输组件150A包括一个或多个载体运输元件152。举例来说,一个或多个载体运输元件152可以是在第一载体运输方向S1中延伸的细长元件。如双箭头示例地所示,一个或多个载体运输元件152在第一载体运输方向S1中是可移动的,用于运输第一载体10A(特别是用于切换路径),例如从第一运输路径T1至第二运输路径T2或反之亦然。特别是,一个或多个载体运输元件152可连接于第一运输致动器154A。举例来说,第一运输致动器154A可设置于真空腔室210的外侧。再者,可设置保护波纹管156用于确保一个或多个载体运输元件152及真空腔室之间的真空密封。

举例来说,图3A绘示两个载体运输元件,其各自连接于分开的运输致动器,其中设置有各自的波纹管。然而,将理解的是,可替代地设置多于两个载体运输元件。再者,将理解的是,根据替代的构造,载体运输元件可连接或耦合至共同运输致动器。

示例性参照图3A,根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式,设备100可更包括第二载体运输组件150B,用于在第二载体运输方向S2中从第二运输路径T2移动第二载体10B朝向第一运输路径T1,或用于在第二载体运输方向S2中从第二运输路径T2移动第二载体10B远离第一运输路径T1。第二载体运输组件150B一般包括第二运输致动器154B,设置于大气空间中,特别是设置于真空腔室的外侧或大气箱中。举例来说,第二运输致动器154B可如同第一运输致动器154A那样布置于真空腔室210的相同侧,如图3A中示例地绘示。

于本公开内容中,“第二载体运输组件”可理解为经构造以朝向第一载体移动第二载体(特别是掩模载体),用于调整第二载体及第一载体之间的距离。特别是,第二载体运输组件一般经构造以用于在第二载体运输方向S2中横向地移动第二载体。示例地参照图3A,将理解的是,术语“第二载体运输方向S2”可理解为水平方向,特别是垂直于运输方向T。

将理解的是,第二载体运输组件150B可包括一个或多个载体运输元件152,其可类似于第二载体运输组件150B的一个或多个载体运输元件进行构造。根据一个示例,如图3A中示例地绘示,第二载体运输组件150B的一个或多个载体运输元件152可经构造以在第一载体运输空间15A及第二载体运输空间15B的周围延伸。特别是,如图3A中示例地绘示,一个或多个载体运输元件152的上载体运输元件布置在第一载体10A及第二载体10B的上方。举例来说,上载体运输元件可布置于提供于本文描述的磁性轴承及驱动单元的相邻致动器之间的空间或缝隙中。为了简化说明,本文描述的磁性轴承及驱动单元的致动器在图3B中以附图标记190表示。

将理解的是,在上述相邻致动器之间的空间191或缝隙经构造使得上载体运输元件布置于上述相邻致动器之间,如图3B中示例地绘示。再者,将理解的是,本文描述的载体运输元件一般在横向方向L中延伸。

如图3A中示例地绘示,上腔室壁212可经构造以延伸至真空腔室210中。特别是,装设有本文描述的磁性轴承及驱动单元的上腔室壁212可在垂直方向中延伸至真空腔室中50mm至100mm。举例来说,如图3A中示例地所示,上腔室壁212可应用成桶状板材元件。再者,将理解的是,上腔室壁可具有用于上载体运输元件的凹部192。特别是,从图3B来看,将理解的是,上载体运输元件设置于真空腔室的内侧,并且本文描述的磁性轴承及驱动单元设置于大气箱或真空腔室的外侧。

如图3A中所示,根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式,一个或多个载体运输元件152包括载体保持部153,载体保持部153用于保持本文描述的载体。特别是,载体保持部153可适于耦接至设置在第一载体处的各自的耦接元件。举例来说,于图3A中,第一载体的耦接元件绘示成凹部。将理解的是,载体保持部153及载体的耦接元件可具有其他构造,其经构造以用于将载体运输元件的载体保持部耦接至第一载体。

示例性参照图4,根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式,设备100更包括至少一个侧向稳定装置160。至少一个侧向稳定装置160具有至少一个稳定磁体161,经构造以在横向于运输方向T的横向方向L中在本文描述的载体上提供恢复力F。举例来说,至少一个稳定磁体161可布置于第一载体运输空间15A和/或第二载体运输空间15B的上方,特别是在大气空间中。特别是,至少一个稳定磁体161可附接于上腔室壁212的外侧表面。一般来说,至少一个稳定磁体161可布置在相对于驱动单元(例如驱动单元130及另外的驱动单元130B)某一横向距离处。

因此,在载体横向偏移的情况中,通过在本文描述的载体上提供恢复力,至少一个侧向稳定装置160可有利地将载体稳定在预定的横向位置处。恢复力F推动或拉动载体回到预定的横向位置。因此,至少一个侧向稳定装置160可有利地产生稳定力。该稳定力经构造以在横向方向L中抵消从载体运输空间(例如第一载体运输空间15A和/或第二载体运输空间15B)的载体的偏移。也就是说,当载体在横向方向L中从图4中示例地绘示的预定横向位置或平衡位置偏移时,至少一个侧向稳定装置160可经构造以产生将各自的载体推回和/或拉回到各自的载体运输空间中的恢复力F。

如图4中示例地绘示,至少一个稳定磁体161可为被动磁体,具有北极N及南极S。于一些实施方式中,至少一个稳定磁体可包括多个被动磁体,这些被动磁体可在运输方向中一个接着一个地布置。一般来说,至少一个稳定磁体的内侧的磁场线的方向(在磁体的内侧从南极往北极)可本质上对应于横向方向L。

至少一个载体稳定磁体162可以附接于本文描述的载体(例如第一载体和/或第二载体),使得在横向方向L中各自的载体从各自的载体运输空间的偏移导致至少一个侧向稳定装置160的至少一个稳定磁体161及至少一个载体稳定磁体162之间的排斥磁力抵消该偏移。因此,在保持期间及沿着运输路径运输载体期间,例如第一载体和/或第二载体的载体有利地维持在图4中所示的平衡位置。

如图4中示例地绘示,至少一个载体稳定磁体162可以是具有北极N及南极S的被动磁体,其经布置而使得至少一个载体稳定磁体162的内侧的磁场线的方向本质上对应于横向方向L。

特别是,相较于至少一个侧向稳定装置160的至少一个稳定磁体161,至少一个载体稳定磁体162可反向布置。因此,当载体(例如第一载体和/或第二载体)布置在平衡位置中时,至少一个载体稳定磁体162的北极N靠近至少一个稳定磁体161的南极S并被至少一个稳定磁体161的南极S吸引,并且至少一个载体稳定磁体162的南极S靠近至少一个稳定磁体161的北极N并被至少一个稳定磁体161的北极N吸引。举例来说,当第二载体在第一横向方向中从平衡位置偏移(例如朝向图4的左侧)时,至少一个载体稳定磁体162的北极N靠近至少一个侧向稳定装置160的至少一个稳定磁体161的北极N,从而产生迫使载体回到平衡位置的恢复力。当第二载体在第二(相反)横向方向中从平衡位置偏移(例如朝向图4的右侧)时,至少一个载体稳定磁体162的南极S靠近至少一个侧向稳定装置160的至少一个稳定磁体161的南极S,而产生迫使载体回到平衡位置的恢复力。因此,至少一个侧向稳定装置160将第二载体稳定在预定横向位置处,使得载体的横向运动可减少或避免。上方有关于第二载体及对应于第二载体的至少一个侧向稳定装置160的说明在细节上作必要的修正后应用于第一载体及对应于第一载体的至少一个侧向稳定装置160。

示例性参照图4,根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式,设备100可更包括安全布置170。一般来说,安全布置170包括横向防护引导元件171,设置于第一载体运输空间15A及第二载体运输空间15B之间。特别是,如图4中示例地绘示,横向防护引导元件171可设置于对称平面105中,如本文描述。横向防护引导元件171可应用成引导轨道或成列的多个引导销。

如图4中示例地绘示,附加地或替代地,安全布置170可包括安全辊172,以用于特别是在一个或多个第一致动器121和/或一个或多个第三致动器121B停用的情况下为载体(例如第一载体和/或第二载体)提供垂直支撑,特别是垂直安全支撑。一般来说,安全辊172连接于保持件173,保持件173附接于上腔室壁212的内侧表面。保持安全辊的保持件也可作为横向防护引导元件。

示例性参照图4,根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式,保护元件163(例如保护条)可附接于至少一个载体稳定磁体162。特别是,保护元件163可附接于至少一个载体稳定磁体162的面对保持件173的一侧。

示例性参照图4,根据可与本文描述其他实施方式结合的一些实施方式,设备100可更包括调整装置155。调整装置155经构造以调整由以下项构成的群组中的一个或多者:相对于本文描述的载体运输空间的至少一个侧向稳定装置160的至少一个稳定磁体161的位置,特别是垂直位置;至少一个稳定磁体161的取向或角度位置;横向防护引导元件171的位置,特别是垂直位置;及横向防护引导元件171的取向或角度位置。特别是,调整装置可经构造以在垂直方向中移动至少一个稳定磁体161和/或经构造以在垂直方向中移动横向防护引导元件171,如图4中所示的箭头所示例性绘示。

因此,调整装置155可以改变至少一个稳定磁体161的状态,使得由侧向稳定装置施加于载体(例如第一载体和/或第二载体)上的恢复力F改变,特别是减少或完全切断。在由侧向稳定装置作用于载体上的恢复力F减少或停用之后,载体可于横向方向中从侧向稳定装置移动离开。

因此,通过经由调整装置155来实现恢复力F的调整,载体可在侧向稳定装置的运输状态中沿着运输路径可靠地保持及引导。在侧向稳定装置的停用切换状态中,载体可在横向方向L中移动。再者,在载体于横向方向L中的偏移的情况中,可调整作用于载体上的恢复力F。

再者,示例性参照图4,将理解的是,调整装置155可经构造以移动横向防护引导元件171,使得本文描述的载体可在横向方向中移动。举例来说,横向防护引导元件171可垂直地向上移动,以允许第一载体和/或第二载体的横向移动。再者,如图4中所示,可设置保护波纹管174,用于确保可移动的横向防护引导元件171及真空腔室之间的真空密封。或者,横向防护引导元件171可(例如绕着在横向方向中延伸的轴或绕着在运输方向中延伸的轴)旋转(未明确绘示于图3A中),以允许载体横向运动。

示例性参照图3A,将理解的是,根据本公开内容的载体包括主体13,用于承载例如基板1或掩模2的物体。举例来说,主体13可应用成载体板,经构造以用于保持基板或掩模。或者,主体13可应用成载体框架,经构造以用于保持基板或掩模。如图3A中示例地绘示,主体具有第一端11及第二端12。第二端12相反于第一端11。主体13的第一端11包括一个或多个第一磁性配对件181(绘示于图1及图2中),用于与本文描述的一个或多个磁性轴承相互作用。第一端11更包括一个或多个第二磁性配对件182(绘示于图1及图2中),用于与本文描述的驱动单元相互作用。此外,主体13的第二端12包括第三磁性配对件183(绘示于图1及图2中),用于与本文描述的非接触引导布置的一个或多个被动磁性轴承125相互作用。

示例性参照图1至图3,将理解的是,第一载体10A和/或第二载体10B可为非对称载体,即,当各自的载体在垂直取向中时,载体相对于延伸通过重心(绘示于图1及图2中的G1/G2)的垂直平面111不对称。

从图1至图3来看,将理解的是,本文描述的载体(即,第一载体及第二载体)的尺寸一般对应于各自的载体运输空间(即,第一载体运输空间及第二载体运输空间)的尺寸。因此,载体可具有高度Hc,对应于载体运输空间的高度H。再者,载体可具有宽度Wc,对应于载体运输空间的宽度W。因此,Hc/Wc的深宽比可为Hc/Wc≥5,特别是Hc/Wc≥10。

根据可与本文描述的任何其他实施方式结合的一些实施方式,上腔室壁可实现为分离的板材元件,特别是如图3A中示例地绘示的桶状板材元件。因此,在上腔室壁固定于腔室的侧壁之前,磁性轴承的致动器及驱动单元的致动器可有利地预先固定于上腔室壁。提供具有预先固定的一个或多个第一致动器及预固定的一个或多个第二致动器的上腔室壁可有助于组装工序并可减少成本。因此,相较于现有技术,提出了较简易的(特别是具有磁性悬浮系统的)运输设备至腔室中的整合。

示例性参照图5,说明根据本公开内容的用于垂直地处理基板的处理系统200。根据可与本文描述的任何其他实施方式结合的实施方式,处理系统200包括至少一个真空腔室210(特别是真空处理腔室),至少一个真空腔室210包括处理装置205。再者,处理系统200包括根据本文描述任何实施方式的用于运输第一载体10A及第二载体10B的设备100。特别是,处理装置205一般布置在真空处理腔室中,并且处理装置205可选自由沉积源、蒸发源(例如用于沉积用于OLED制造的一个或多个有机材料的蒸发源)、及溅射源所组成的群组。

于本公开内容中,术语“真空”可理解为具有少于例如10mbar的真空压力的技术真空的含义。一般来说,本文描述的真空腔室中的压力可为10

示例性参照图6中所示的流程图,说明根据本公开内容的在真空腔室210中运输第一载体10A及第二载体10B的方法300。根据可与本文描述的任何其他实施方式结合的实施方式,方法300包括利用一个或多个磁性轴承120在第一载体运输空间15A中非接触地保持第一载体10A(由图6中的方块310表示)。一个或多个磁性轴承居中布置于将运输的第一载体10A的重心的上方。

此外,方法300包括利用一个或多个另外的磁性轴承120B在第二载体运输空间15B中非接触地保持第二载体10B(由图6中的方块320表示)。一个或多个另外的磁性轴承120B居中布置于将运输的第二载体10B的重心的上方。一个或多个另外的磁性轴承120B相邻于一个或多个磁性轴承120布置。特别是,一个或多个磁性轴承120及一个或多个另外的磁性轴承120B相对于对称平面105镜像对称布置。对称平面105位于第一载体运输空间15A及第二载体运输空间15B之间。特别是,对称平面105为垂直平面。

再者,方法300包括利用布置在第一载体运输空间15A的上方的驱动单元130沿着第一运输路径T1在运输方向T中运输第一载体10A(由图6中的方块330表示)。此外,方法300包括利用布置在第二载体运输空间15B的上方的另外的驱动单元130B沿着第二运输路径T2在运输方向T中运输第二载体10B(由图6中的方块340表示)。

将理解的是,运输第一载体10A及第二载体10B的方法300可通过利用根据本文描述的任何实施方式的用于运输第一载体10A及第二载体10B的设备100进行。

示例性参照图7中所示的流程图,说明根据本公开内容的在真空腔室210中调整第一载体10A及第二载体10B之间的距离的方法400。根据可与本文描述的任何其他实施方式结合的实施方式,方法400包括提供根据本文描述的任何实施方式的用于运输第一载体10A及第二载体10B的设备100(由图7中的方块410表示),设备100包括第二载体运输组件150B,用于在第二载体运输方向S2中从第二运输路径T2朝向第一运输路径T1移动第二载体10B。第二载体运输组件150B包括第二运输致动器154B,设置于大气空间中,特别是设置于真空腔室的外侧或大气箱中。再者,方法400包括利用第二运输致动器154B在第二载体运输方向S2中从第二运输路径T2朝向第一运输路径T1移动第二载体10B(由图7中的方块420表示)。

根据可与本文描述的任何其他实施方式结合的实施方式,方法400可包括通过利用一个或多个另外的磁性轴承120B悬浮第二载体10B,一个或多个另外的磁性轴承120B具有一个或多个第三致动器121B,用于在第二运输路径T2的第二载体运输空间15B中非接触地保持第二载体10B。此外,方法400可包括通过使用(特别是本文描述的第二运输系统的)一个或多个第三致动器121B吸引第二载体10B,以减少一个或多个第三致动器121B及第二载体10B之间的距离。特别是,吸引第二载体10B的步骤可包括将上腔室壁212及第二载体10B之间的缝隙减少上腔室壁212及第二载体10B之间的缝隙的原始垂直宽度的2/3。举例来说,减少缝隙可包括将垂直缝隙宽度从3mm减少至1mm。因此,在安全辊172及第二载体10B之间所提供的垂直缝隙宽度可增加2/3,例如从3mm增加至5mm。

再者,方法400可包括朝向第二载体10B移动第二载体运输组件150B的一个或多个载体运输元件152至保持位置。特别是,保持位置可以是在载体在垂直方向中降低以接触第二载体的耦接元件时,一个或多个载体运输元件152的载体保持部153可保持载体的位置。举例来说,第二载体的耦接元件可以是凹部,如图3A中示例地绘示。因此,保持位置可以是一个或多个载体运输元件152的载体保持部153进入第二载体10B的各自的凹部的位置。

再者,方法400可包括通过利用(特别是本文描述的第二运输系统的)一个或多个第三致动器121B降低第二载体10B,以建立一个或多个载体运输元件152及第二载体10B(特别是第二载体的耦接元件)之间的接触。举例来说,当一个或多个载体运输元件152及第二载体10B之间的接触建立时,如图3A中示例地绘示的,安全辊172及第二载体10B之间的缝隙可具有大约1mm的垂直缝隙宽度。因此,在载体的横向移动期间,第二载体及上腔室壁212之间的垂直距离可大约为5mm。

再者,方法400包括通过利用第二运输致动器154B在第二载体运输方向S2中从第二运输路径T2朝向第一运输路径T1移动第二载体10B来调整第一载体10A及第二载体10B之间的距离。或者,调整第一载体10A及第二载体10B之间的距离可包括通过利用第二运输致动器154B在第二载体运输方向S2中从第二运输路径T2移动第二载体10B远离第一运输路径T1。

根据可与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式,方法400包括垂直地移动从由以下项组成的群组选择的至少一个元件:本文描述的第一运输系统的第一下轨道区段11L、第二运输系统的第二下轨道区段14L、设置于第二载体运输空间15B的至少一个侧向的横向防护引导元件、及至少一侧向稳定装置160。

特别是,如本文描述的,可通过利用致动器124垂直向下移动第一下轨道区段11L及第二下轨道区段14L,以用于调整下轨道区段及上轨道区段之间的距离。再者,如示例性参照图4说明,至少一个侧向稳定装置160的至少一个稳定磁体161可垂直向上移动,以允许第二载体横向移动。再者,如示例地参照图4的说明,横向防护引导元件171可垂直向上移动,以允许第二载体的横向运动。或者,横向防护引导元件171可旋转,例如绕着在横向方向中延伸的轴或绕着在运输方向中延伸的轴旋转,以允许第二载体的横向移动。因此,将理解的是,在横向方向中移动第二载体之前,阻碍第二载体的横向移动的运输系统的元件(例如至少一个稳定磁体161和/或横向防护引导元件171和/或非接触引导布置)被移开,以在横向方向中释放第二载体。

有鉴于上述,将理解的是,相较于现有技术,本公开内容的实施方式有利地提供用于在真空腔室中运输第一载体及第二载体的设备、用于垂直地处理基板的处理系统、在真空腔室中运输第一载体及第二载体的方法、及在真空腔室中调整第一载体及第二载体之间的距离的方法,其在高温真空环境中准确及平顺运输载体的方面有所改善,特别是用于高品质的显示器制造,例如用于OLED显示器。再者,相较于现有技术,本文描述的实施方式有利地在较低的制造成本下提供更稳健的非接触载体运输,及对制造公差、变形、及热膨胀更不敏感。

综上所述,虽然上述内容涉及实施方式,但是在不脱离本发明的精神和范围的情况下,可以设计其他和进一步的实施方式,并且本公开内容的保护范围由随附的权利要求书所确定。

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