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光开关结构、相关的制造方法以及具有光开关结构和电压源的装置

摘要

本发明公开了一种光开关结构(2),包括具有n区(5)的半导体衬底(4),布置在所述半导体衬底(4)的n区侧的氢化SiNx层(8),与所述n区(5)接触的阴极(9),和与所述SiNx层(8)接触的阳极(10),其中,所述光开关结构(2)设置成,当在所述阳极(10)与所述阴极(9)之间施加外部电压时,用光(L)照射所述SiNx层(8),以切换到非线性导电状态。

著录项

  • 公开/公告号CN112531072A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 成都特频微电子科技发展有限公司;

    申请/专利号CN202010887547.3

  • 发明设计人 胡思福;胡佳洁;菲利克斯·胡;

    申请日2020-08-28

  • 分类号H01L31/16(20060101);H01L31/0352(20060101);H03K17/78(20060101);

  • 代理机构11372 北京聿宏知识产权代理有限公司;

  • 代理人吴大建;金淼

  • 地址 610054 四川省成都市建设北路3段168号

  • 入库时间 2023-06-19 10:19:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-04-07

    授权

    发明专利权授予

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