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反射性掩模坯料的制造方法、反射性掩模坯料和反射性掩模的制造方法

摘要

本发明涉及一种反射性掩模坯料的制造方法、反射性掩模坯料和反射性掩模的制造方法。具体涉及一种反射性掩模坯料,其包括衬底、从衬底侧依次形成在衬底的一个主表面上的用于EUV光反射的多层反射膜、保护膜和用于EUV光吸收的吸收体膜以及导电膜。在衬底的其他主表面上形成坐标参比标记时,在另一主表面上形成坐标参比标记。

著录项

  • 公开/公告号CN112505999A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 信越化学工业株式会社;

    申请/专利号CN202010951398.2

  • 申请日2020-09-11

  • 分类号G03F1/24(20120101);G03F1/54(20120101);G03F1/80(20120101);G03F1/72(20120101);

  • 代理机构11038 中国贸促会专利商标事务所有限公司;

  • 代理人李跃龙

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-06-19 10:16:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/24 专利申请号:2020109513982 申请日:20200911

    实质审查的生效

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