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公开/公告号CN112485962A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-03-12
原文格式PDF
申请/专利权人 上海新阳半导体材料股份有限公司;
申请/专利号CN202011360580.7
发明设计人 王溯;崔中越;耿志月;唐晨;薛新斌;王世建;王志勇;黄桂华;
申请日2020-11-27
分类号G03F7/004(20060101);
代理机构31283 上海弼兴律师事务所;
代理人王卫彬;陈卓
地址 201616 上海市松江区思贤路3600号
入库时间 2023-06-19 10:11:51
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-10-21
授权
发明专利权授予
机译: 厚的化学放大正型光刻胶组合物,厚膜光刻胶层压板,制造方法的制造方法以及厚膜抗蚀剂图案的连接端子
机译: 用于KrF激光器的高分辨率和高纵横比的负型光刻胶组合物
机译: 用于半导体图案形成的KrF激光器的负型光刻胶组合物
机译:水分散性聚异氰酸酯组合物,其制备方法,水基固化性组合物及其应用
机译:水分散性聚异氰酸酯组合物,其制备方法,水基可固化组合物及其应用
机译:碳化物和碳化物组合物,它们的强孔结构及其制备方法和应用
机译:拉曼光谱 - 一种有力的工具,用于定量测定多晶型混合物组合物:在Caco {Sub} 3多晶型混合物中的应用
机译:采用厚膜电镀型百合氧化物紧凑型磁屏蔽
机译:血沉棕黄层厚膜在检测常规厚膜阴性的疟疾寄生虫中的应用
机译:微球组合物,其制备方法和应用
机译:共聚物密封剂组合物和制备方法