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一种高效且低损的机场道面胶黑处理方法

摘要

本发明公开了一种高效且低损的机场道面胶黑处理方法,包括步骤1、向机场跑道胶黑处释放低温媒介;步骤2、通过低温媒介作用,使得胶黑温度降低,脱离高弹态,达到低温状态;步骤3、通过机械力清除方法处理低温状态下的胶黑;步骤4、回收清除掉的胶黑。本发明源于对相关技术缺陷的认识,以及对胶黑的结构、材料性质及形成过程的思考,通过引入低温媒介的作用,提高了除胶速度,降低了孔隙及刻槽中胶黑的清除难度,同时降低了清除胶黑时对道面的损伤,从而更好达到了机场除胶的目的:恢复道面抗滑性能。

著录项

  • 公开/公告号CN112431157A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东南大学;

    申请/专利号CN202011292525.9

  • 申请日2020-11-18

  • 分类号E01H1/00(20060101);E01H1/10(20060101);

  • 代理机构32200 南京经纬专利商标代理有限公司;

  • 代理人石艳红

  • 地址 210096 江苏省南京市玄武区新街口街道四牌楼2号

  • 入库时间 2023-06-19 10:05:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-05

    授权

    发明专利权授予

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