公开/公告号CN112410781A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-02-26
原文格式PDF
申请/专利权人 辽宁中成智造科技有限公司;
申请/专利号CN202011291987.9
申请日2020-11-18
分类号C23C24/10(20060101);B04B7/18(20060101);
代理机构44646 深圳紫晴专利代理事务所(普通合伙);
代理人雒盛林
地址 122500 辽宁省朝阳市凌源市经济开发区温泉大街57号B2
入库时间 2023-06-19 10:02:03
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-03-03
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C24/10 专利申请号:2020112919879 申请公布日:20210226
发明专利申请公布后的驳回
机译: 制造基于铜的合金特征的析出强化和固溶强化的工艺
机译: 一种确定激光冲击强化工艺可及性的方法。
机译: 用于沉积氮化硅或氮氧化硅的等离子体增强化学气相沉积工艺,用于制造一种这样的层布置的方法以及层布置