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仿生突触晶体管及其制备方法

摘要

本发明涉及一种仿生突触晶体管的制备方法,包括:S1、提供衬底,在衬底的一表面形成源电极和漏电极;S2、制备沟道层前驱体水溶液,并在源电极、漏电极和衬底上旋涂形成沟道层;S3、制备电荷俘获‑隧穿层前驱体水溶液,并在沟道层上旋涂形成电荷俘获‑隧穿层;S4、制备铁电绝缘层前驱体水溶液,并在电荷俘获‑隧穿层上旋涂形成铁电绝缘层;S5、在铁电绝缘层上表面形成栅电极,得到仿生突触晶体管。整个制备工艺可在非真空大气条件下进行,并且温度不超过300℃,属于低温工艺,工艺简单,无需传统意义上的光刻与真空镀膜,可大幅减少制备时长,生产成本较低,得到的仿生突触晶体管基于可在感受器、存储器和人工智能领域中有重要应用潜力。

著录项

  • 公开/公告号CN112397392A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西交利物浦大学;

    申请/专利号CN202011278994.5

  • 申请日2020-11-16

  • 分类号H01L21/44(20060101);H01L21/34(20060101);H01L21/02(20060101);H01L21/445(20060101);H01L29/423(20060101);H01L29/51(20060101);H01L29/78(20060101);G01L1/18(20060101);G01L9/06(20060101);

  • 代理机构32295 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人叶栋

  • 地址 215123 江苏省苏州市工业园区独墅湖高等教育区仁爱路111号

  • 入库时间 2023-06-19 09:58:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-09-12

    授权

    发明专利权授予

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