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一种高纯、高致密度三氧化钼靶材的制备方法

摘要

本发明公开了一种高纯、高致密度三氧化钼靶材的制备方法,具体按照如下步骤实施:步骤1,将钼酸铵进行焙解处理,得到高纯三氧化钼;步骤2,将步骤1得到的高纯三氧化钼粉末装入模具内,进行气氛保护热压处理,得到高致密度三氧化钼坯料;步骤3,将步骤2得到的高致密度三氧化钼坯料在空气氛马弗炉内进行二次补氧;步骤4,将经过二次补氧处理的坯料进行机械加工和清洗,最终得到高纯三氧化钼靶材。本发明一种高纯、高致密度三氧化钼靶材的制备方法,能获得高纯度以及高致密度的三氧化钼靶材。

著录项

  • 公开/公告号CN112359336A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 金堆城钼业股份有限公司;

    申请/专利号CN202011165637.8

  • 申请日2020-10-27

  • 分类号C23C14/35(20060101);C23C14/08(20060101);C04B35/495(20060101);C04B35/626(20060101);C04B35/645(20060101);

  • 代理机构61214 西安弘理专利事务所;

  • 代理人涂秀清

  • 地址 710077 陕西省西安市高新区锦业一路88号

  • 入库时间 2023-06-19 09:52:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-05-26

    授权

    发明专利权授予

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