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微纳米通道结构、传感器及其制备方法、微流体装置

摘要

一种微纳米通道结构(20)、微纳米通道结构(20)的制备方法、传感器(2)、传感器(2)的制备方法和微流体装置(40)。该微纳米通道结构(20)包括:衬底基板(21);基底层(22),在衬底基板(21)上且包括多个突起(26);通道壁层(23),在多个突起(26)的远离衬底基板(21)的一侧,且通道壁层(23)中具有微纳米通道(24);其中,多个突起(26)中相邻的突起(26)之间具有凹陷部(27),微纳米通道(24)在衬底基板(21)上的正投影位于凹陷部(27)在衬底基板(21)上的正投影内。该微纳米通道(24)具有高分辨率或超高分辨率且可以具有不同的尺寸和形状,从而可以适用于实际应用中的不同需求,同时节省了工艺步骤,节约了生产成本。

著录项

  • 公开/公告号CN112368234A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 京东方科技集团股份有限公司;

    申请/专利号CN201980000458.8

  • 申请日2019-04-03

  • 分类号B81C1/00(20060101);B82Y40/00(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人王晓燕

  • 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

  • 入库时间 2023-06-19 09:52:39

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