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一种有效改善镂空支架覆膜后膜与支架易脱离的方法

摘要

一种有效改善镂空支架覆膜后膜与支架易脱离的方法,通过支架前处理、支架浸涂成膜、支架超声波喷涂成膜三个步骤为支架进行覆膜;支架前处理工序中,先将支架清洗烘干,使用等离子体表面活化设备活化后待用;支架浸涂成膜工序中,先结合溶剂配置合适浓度的聚氨酯乳液,然后采用自动提拉浸涂机对支架进行浸涂,浸涂完成后转移至真空干燥箱内干燥,连续浸涂两次;支架超声波喷涂成膜工序中,先结合溶剂配置聚氨酯乳液对支架采用超声波精密喷涂设备进行支架外表面喷涂,在喷涂时候需要对支架表面多角度进行多次喷涂。本发明可在支架上形成约100um的膜,提高支架的结合力覆膜支架不会因为人体组织的挤压导致膜与支架的脱离,提高了使用寿命。

著录项

  • 公开/公告号CN112317279A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海惠凯医疗科技有限公司;

    申请/专利号CN202011132997.8

  • 申请日2020-10-21

  • 分类号B05D7/14(20060101);B05D7/24(20060101);B05D1/18(20060101);B05D1/02(20060101);B05D3/14(20060101);A61F2/04(20130101);A61F2/07(20130101);

  • 代理机构11616 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司;

  • 代理人汪丽丽

  • 地址 201800 上海市嘉定区城北路1355号1幢6层609室

  • 入库时间 2023-06-19 09:47:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-01-13

    著录事项变更 IPC(主分类):B05D 7/14 专利申请号:2020111329978 变更事项:发明人 变更前:吴力程国政陈朝辉刘俊孙高斌 变更后:吴力程国政刘俊孙高斌

    著录事项变更

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