一种去除硅片表面吸附纳米级颗粒物的装置及方法

摘要

本发明属于半导体表面清洁相关技术领域，其公开了一种去除硅片表面吸附纳米级颗粒物的装置及方法，装置包括真空组件及连接于真空组件的液滴发射及加速组件；液滴发射与加速组件包括液体存储器、石墨电极、PEEK毛细管、熔融石英毛细管及接地的萃取电极；液体存储器设置在真空组件上方，其用于收容导电溶液；石墨电极设置在液体存储器上，其两端分别用于与直流电源相连接及与导电液体相接触；PEEK毛细管的一端与液体存储器相连接，另一端与熔融石英毛细管相连接，熔融石英毛细管的一端伸入真空组件内；萃取电极设置在真空组件内，且其与熔融石英毛细管所形成的发射尖端相对设置。本发明提高了清洁效率，降低了成本，实现移除后无液体残留。