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公开/公告号CN112292622A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-29
原文格式PDF
申请/专利权人 微凤凰有限公司;
申请/专利号CN201980001332.2
发明设计人 姜尚道;吴承根;姜现淙;柳昌勋;
申请日2019-07-19
分类号G02B3/00(20060101);G02B3/02(20060101);
代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;
代理人刘久亮;黄纶伟
地址 韩国光州广域市
入库时间 2023-06-19 09:41:38
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-07-12
授权
发明专利权授予
机译: 制造光学基板,光学基板,光学集成电路,光学互连器和光学多路复用器/解多路复用器的方法
机译: 多功能光学开关(光学波长分割多路复用器/解多路复用器,增滴多路复用器和互连设备)及其制造方法。
机译: 阵列波导衍射光栅型光学多路复用器/解复用器电路的光学芯片,波导基质和制造光学阵列光栅波导型光学多路复用器/解复用器电路的方法
机译:基于光子晶体的光学加工装置的光学晶体全光2×1多路复用器设计
机译:东京工业大学和AIST光学涡旋多路复用器开发的3D弯曲硅波导采用与波长无关的光学涡旋发生器
机译:利用级联可重构光学加压多路复用器的弹性光网络中使用人工神经网络的光学滤波惩罚估计
机译:用于光学互连的宽光谱范围操作和制造耐受Si-Wire(DE)多路复用器
机译:光学非线性有机薄膜和电光可调谐阵列波导光栅(AWG)多路复用器。
机译:用于光学涡旋的空间和模式划分解复用的衍射光学器件:设计制造和光学表征
机译:2×2TI:利用应变光学效应的LiNbo3抗性光学加入/滴多路复用器
机译:高级X射线天体物理设施(aXaF)光学的制造:光学制造的确定性,精密工程方法