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基板悬浮型激光处理装置和悬浮高度的测量方法

摘要

本发明涉及基板悬浮型激光处理装置和悬浮高度的测量方法。根据实施例的基板悬浮型激光处理装置包括:用于将基板悬浮和运送的台架;以及用于测量基板的悬浮高度H的悬浮高度测量装置。注意,悬浮高度测量装置与基板之间的距离可以根据所测量的悬浮高度H自动调节。基板的悬浮高度H是通过向基板和台架施加激光来测量的。悬浮高度测量装置与基板之间的距离通过使用反馈机制来调节,在该反馈机制中,将所测量的基板的悬浮高度用作输入。

著录项

  • 公开/公告号CN112242335A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社日本制钢所;

    申请/专利号CN202010669196.9

  • 发明设计人 林大介;三上贵弘;铃木祐辉;

    申请日2020-07-13

  • 分类号H01L21/677(20060101);H01L21/67(20060101);H01L21/02(20060101);G01B11/06(20060101);G01B17/02(20060101);

  • 代理机构31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人曹廷廷

  • 地址 日本国东京都品川区大崎一丁目11番1号

  • 入库时间 2023-06-19 09:36:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/677 专利申请号:2020106691969 申请日:20200713

    实质审查的生效

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