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一种透过率线性变化的滤光片的制备方法

摘要

本发明提供一种透过率线性变化的滤光片的制备方法,包括;准备、镀膜、切割、检测;镀膜包括膜系设计、根据膜系设计对每一层薄膜进行膜层厚度控制、进镀膜机进行薄膜沉积;膜系设计中堆叠在基层上的膜系的膜系结构包括八至二十个法布里‑帕罗腔,法布里‑帕罗腔的最后一层作为连接层级联下一个法布里‑帕罗腔;每个法布里‑帕罗腔的最后一层为非四分之一光学厚度的折射率层。本发明能够制备出透过率线性变化的滤光片,该滤光片在特定的波长范围内的插损或透过率随波长线性变化,可用于波长的识别。且本发明根据膜系结构多次实验选择合适的监控方法,得到精确地的膜层的光学厚度,可实现高高精度的线性变化光谱曲线。

著录项

  • 公开/公告号CN112230323A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州众为光电有限公司;

    申请/专利号CN202011049837.7

  • 发明设计人 苏炎;李昱;陈居凯;

    申请日2020-09-29

  • 分类号G02B5/28(20060101);C23C14/08(20060101);C23C14/10(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/54(20060101);

  • 代理机构11369 北京远大卓悦知识产权代理有限公司;

  • 代理人孔凡玲

  • 地址 215000 江苏省苏州市高新区向街8号

  • 入库时间 2023-06-19 09:33:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-11

    授权

    发明专利权授予

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