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含量子点材料、其制备方法以及包括其的光学构件和设备

摘要

提供了一种含量子点材料、其制备方法以及包括其的光学构件和设备。所述含量子点材料包括:含量子点复合物,包括量子点和第一基质材料;以及第二基质材料,其中,量子点分散在第一基质材料中,含量子点复合物分散在第二基质材料中,并且第一基质材料的折射率大于第二基质材料的折射率。

著录项

  • 公开/公告号CN112210179A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星显示有限公司;

    申请/专利号CN202010657752.0

  • 发明设计人 金世勳;李昌熙;沈俊辅;河在国;

    申请日2020-07-09

  • 分类号C08L39/04(20060101);C08L33/14(20060101);C08L33/08(20060101);C08L33/24(20060101);C08L33/10(20060101);C08L51/08(20060101);C08K3/32(20060101);C08K3/30(20060101);C08K3/22(20060101);C08J5/18(20060101);

  • 代理机构11286 北京铭硕知识产权代理有限公司;

  • 代理人程月;韩芳

  • 地址 韩国京畿道龙仁市

  • 入库时间 2023-06-19 09:32:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-06-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):C08L39/04 专利申请号:2020106577520 申请日:20200709

    实质审查的生效

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