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一种减小硫化铟半导体光学带隙的方法

摘要

本发明涉及一种减小In2S3半导体光学带隙的方法,具体在于以In2S3二元硫化物为母体半导体,通过Sn元素掺杂调控其能带,形成化学分子式为In2‑xSnxS3(0.04≤x≤0.2)的半导体。与现有技术相比,本发明通过对In2S3半导体掺杂Sn元素,可以大幅度减小In2S3半导体材料的禁带宽度,增加其对太阳能光谱的吸收能力,从而扩大In2S3半导体材料的利用范围,使其可以直接用作太阳能电池吸收材料,对太阳能电池的发展具有实际意义。

著录项

  • 公开/公告号CN112201710A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海电机学院;

    申请/专利号CN201910531150.8

  • 发明设计人 赵春燕;张栋栋;陈平;

    申请日2019-06-19

  • 分类号H01L31/0296(20060101);H01L31/0216(20140101);

  • 代理机构31225 上海科盛知识产权代理有限公司;

  • 代理人杨元焱

  • 地址 200240 上海市闵行区江川路690号

  • 入库时间 2023-06-19 09:29:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-07-04

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L31/0296 专利申请号:2019105311508 申请公布日:20210108

    发明专利申请公布后的驳回

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