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公开/公告号CN112203821A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-08
原文格式PDF
申请/专利权人 富士胶片株式会社;
申请/专利号CN201980035676.5
发明设计人 梅泽朋一;
申请日2019-05-17
分类号B29C33/42(20060101);B29C33/38(20060101);B29C59/02(20060101);
代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;
代理人韩香花;崔成哲
地址 日本东京都
入库时间 2023-06-19 09:29:07
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-04
授权
发明专利权授予
机译: 为了形成无机抗蚀剂图案,制造光盘原盘的方法和光盘压模的光盘基板的制造方法
机译: 抗蚀剂图案的制造方法,基体表面图案的制造方法,模具的制造方法以及模制品的制造方法
机译: 厚膜图案转印的原版模具,制造相同方法的方法,厚膜图案转印的原版模具,制造相同方法,制造厚膜图案的方法,等离子显示器的背面材料,等离子体显示的方法,相同的制造方法显示器及其制造方法
机译:使用添加剂制造和传统方法制造的间接镶嵌图案的边缘和内部缺陷的比较 - 但第四型研究。
机译:通过两步纳米图案化方法制造外延铁电BIFEO3纳米结构的制造
机译:开发一种用于制造集成到半导体制造中的硬掩模图案的易嵌段共聚物方法
机译:直接使用抗蚀剂图案作为电镀模具的矩阵透镜阵列的新的简单制造方法
机译:二嵌段共聚物薄膜中定向自组装方法的数值模拟,用于高范围阶的纳米级图案的高效制造
机译:通过滴或适合流的方法用银纳米线制造的高重复性柔性导电图案
机译:用正面聚合制造制造方法以产生图案化材料
机译:制造方法和技术研究制造电子模块的覆盖方法。电子模块的制造方法。