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阳极氧化装置、阳极氧化方法及阳极氧化装置的阴极的制造方法

摘要

本发明提供一种阳极氧化装置,其用于在被处理基板上形成多孔层,所述阳极氧化装置的特征在于,具备:填充有电解质溶液的电解槽;配置于所述电解质溶液中的阳极和阴极;以及使所述电解质溶液中的所述阳极与所述阴极的电极间通电的电源,所述阳极为所述被处理基板,所述阴极通过在硅基板表面上形成氮化膜而成。由此,提供一种在利用HF溶液中的电化学反应而形成多孔硅的阳极氧化中,对HF溶液中的电化学反应具有耐受性且无金属污染等,并比以往更便宜的阴极材料。此外,以比以往更便宜的方式提供高质量的多孔硅。

著录项

  • 公开/公告号CN112154229A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 信越半导体株式会社;

    申请/专利号CN201980032658.1

  • 发明设计人 大槻刚;玉塚正郎;

    申请日2019-04-02

  • 分类号C25D17/10(20060101);C01B33/02(20060101);C25D17/00(20060101);

  • 代理机构11002 北京路浩知识产权代理有限公司;

  • 代理人张晶;谢顺星

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-06-19 09:19:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-06-09

    授权

    发明专利权授予

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