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高电子迁移率晶体管和调整二维电子气体电子密度的方法

摘要

本发明公开一种高电子迁移率晶体管和调整二维电子气体电子密度的方法,其中高电子迁移率晶体管包含一氮化镓层,一氮化铝镓层设置于氮化镓层上,氮化铝镓层具有一伸张应力,一源极电极以及一漏极电极设置于氮化铝镓层之上,一栅极电极设置于源极电极与漏极电极之间的氮化铝镓层上,至少一个氧化硅层埋入于氮化铝镓层中,其中氧化硅层是利用流动式化学气相沉积所制作,氧化硅层提升氮化铝镓层中的伸张应力。

著录项

  • 公开/公告号CN112133739A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 联华电子股份有限公司;

    申请/专利号CN201910553143.8

  • 发明设计人 李凯霖;李志成;陈威任;

    申请日2019-06-25

  • 分类号H01L29/06(20060101);H01L29/778(20060101);H01L21/335(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人陈小雯

  • 地址 中国台湾新竹市

  • 入库时间 2023-06-19 09:18:22

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