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公开/公告号CN112114472A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-12-22
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;
申请/专利号CN202010854148.7
发明设计人 赵越;高志良;张达;刘衍峰;刘栋斌;李哲;孙振亚;李巍;王小朋;
申请日2020-08-24
分类号G03B17/55(20060101);G03B13/32(20060101);
代理机构44316 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人曹卫良
地址 130033 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
入库时间 2023-06-19 09:16:49
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-12-02
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03B17/55 专利申请号:2020108541487 申请公布日:20201222
发明专利申请公布后的驳回
机译: 具有弯曲焦面或目标参考元件和场补偿器的共焦成像装置
机译: 焦面扫描装置。
机译: 反射器的装置,用于抛物面双旋二苯丙酸甲酯投影仪
机译:旋转塞贝克效应在极性反焦旋α-CU_2V_2O_7
机译:与多焦骨骨骼参与的旋翼巨大甘蓝瘤在儿科女性患者中
机译:旋节线理论:旋节线去湿和表面定向相分离中的一种普遍的破裂机理(某些技术方面:空间相关性和旋节线去湿中偶极-四极相互作用的意义)
机译:WaFER:一种用于导出毫米波望远镜焦面并表征其光学响应的工具
机译:主动和被动方法改善了软面倾斜旋翼的气动弹性稳定性。
机译:Fe2(μ-S)配合物中的低旋伪四面体Fe(I)位点
机译:图1:焦旋在蛇类期间的初始,第四和最终报警呼叫之后,焦旋幻想在围绕存在的初始,第四和最终报警呼叫之后的平均时间比例(中位数,上部和下四分位数)。
机译:抛物面和偏移抛物面反射器焦域的场