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一种标准单元库的建立方法、装置、电子设备及存储介质

摘要

本发明实施例公开一种标准单元库的建立方法、装置、电子设备及存储介质,涉及集成电路技术领域,能够在设计初期有效验证老化对产品设计的影响。所述方法包括:获取预设工艺‑电压‑温度条件下标准单元库的第一时序模型文件和所述标准单元库中各标准单元的第一网表文件;在所述第一网表文件中,为每个所述标准单元添加性能退变参数,得到第二网表文件,根据所述第二网表文件为每个所述标准单元构建老化函数,所述老化函数用于描述老化时长与老化性能参数之间的映射关系;利用所述老化函数和所述第一时序模型文件生成所述标准单元库的第二时序模型文件。本发明适用于集成电路设计中。

著录项

  • 公开/公告号CN112100158A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 海光信息技术有限公司;

    申请/专利号CN202010998114.5

  • 发明设计人 戴明;张亚光;

    申请日2020-09-21

  • 分类号G06F16/21(20190101);G06F16/28(20190101);G06F30/20(20200101);G06F119/04(20200101);

  • 代理机构11237 北京市广友专利事务所有限责任公司;

  • 代理人张仲波

  • 地址 300000 天津市滨海新区天津华苑产业区海泰西路18号北2-204工业孵化-3-8

  • 入库时间 2023-06-19 09:15:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-22

    授权

    发明专利权授予

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