首页> 中国专利> 聚氨酯的改性方法、聚氨酯、抛光垫及抛光垫的改性方法

聚氨酯的改性方法、聚氨酯、抛光垫及抛光垫的改性方法

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

本发明使用包括准备具有烯属不饱和键的聚氨酯的工序、以及用含有具有共轭双键的化合物的液体对聚氨酯进行处理的工序的聚氨酯的改性方法，或者使用包括准备具有共轭双键的聚氨酯的工序、以及用含有具有烯属不饱和键的化合物的液体对聚氨酯进行处理的工序的聚氨酯的改性方法。

著录项

公开/公告号CN112105667A

专利类型发明专利
公开/公告日2020-12-18

原文格式PDF
申请/专利权人株式会社可乐丽;
展开▼

申请/专利号CN201980031163.7
发明设计人大下梓纱;加藤充;竹越穣;冈本知大;加藤晋哉;
展开▼

申请日2019-04-26
分类号C08G18/83(20060101);B24B37/24(20060101);C08G18/67(20060101);C08G18/68(20060101);C08G18/69(20060101);H01L21/304(20060101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人王利波
地址日本冈山县
入库时间 2023-06-19 09:13:40

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2023-01-10

授权

发明专利权授予

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 聚氨酯的改性方法、聚氨酯、抛光垫及抛光垫的改性方法 [P] . 中国专利： CN112105667A . 2020-12-18
2. 扩链剂、聚氨酯及其改性方法、抛光层、抛光垫及抛光方法 [P] . 中国专利： CN110573547A . 2019-12-13
3. MODIFICATION METHOD OF POLYURETHANE, POLYURETHANE, POLISHING PAD, AND MODIFICATION METHOD OF POLISHING PAD [P] . US2021276143A1 . 2021-09-09

机译：聚氨酯，聚氨酯，抛光垫和抛光垫改性方法的改性方法
4. POLYURETHANE FOR POLISHING LAYER, POLISHING LAYER INCLUDING POLYURETHANE AND MODIFICATION METHOD OF THE POLISHING LAYER, POLISHING PAD, AND POLISHING METHOD [P] . US2021087325A1 . 2021-03-25

机译：用于抛光层的聚氨酯，抛光层包括抛光层的聚氨酯和改性方法，抛光垫和抛光方法
5. Polyurethane for polishing layer, polishing layer including polyurethane and modification method of the polishing layer, polishing pad, and polishing method [P] . US11053339B2 . 2021-07-06

机译：用于抛光层的聚氨酯，抛光层包括抛光层的聚氨酯和改性方法，抛光垫和抛光方法

获取专利

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号