首页> 中国专利> 一种辛烯钝化的硅量子点纳米颗粒的合成方法

一种辛烯钝化的硅量子点纳米颗粒的合成方法

摘要

本发明涉及一种辛烯钝化的硅量子点纳米颗粒的合成方法,包括:步骤1、在恒定电流条件下,在包含HF和甲醇的电解质混合物中对硅晶片进行电化学蚀刻,硅晶片可以重复使用,直到被电化学蚀刻穿透为止;步骤2、电化学蚀刻结束后,立即将硅晶片浸入脱氧纯净1‑辛烯中,在白光下进行白光诱导的氢化硅烷化反应。本发明的有益效果是:本发明的合成方法能在较低成本的条件下大量制造辛烯钝化的硅量子点纳米粒子,同时该辛烯钝化的硅量子点纳米粒子具有较高的荧光量子效率,较高的稳定性,并能在多种有机溶剂中形成透明的悬浮液(如己烷,甲苯,三氯甲烷,乙酸乙酯等);本发明使用6英寸硅晶片每批次可以生产约20mg的硅量子点纳米颗粒(SiQDNPs)固体粉末。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-30

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C01B33/021 专利申请号:2020108670435 申请公布日:20201215

    发明专利申请公布后的视为撤回

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号