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公开/公告号CN112033300A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-12-04
原文格式PDF
申请/专利权人 北京工业大学;
申请/专利号CN202010741134.4
发明设计人 陈洪芳;王煜;孙梦阳;石照耀;
申请日2020-07-29
分类号G01B11/24(20060101);G01B9/02(20060101);
代理机构11203 北京思海天达知识产权代理有限公司;
代理人沈波
地址 100124 北京市朝阳区平乐园100号
入库时间 2023-06-19 09:06:00
机译: 双频外差激光路径测量装置距离,具有光导体和信号线,用于电子信号将激光和/或激光信号从电子单元传输到干涉仪单元
机译: 外差式干涉仪的干涉式相位测量装置-使用来自同一光源的相同波长来测量光路位移和相位,并具有可变光路的拉力补偿
机译: 三轴激光干涉仪,用于在重叠区域中测量两臂坐标测量机的两个测量主轴的相对位置-将定义形状的物体固定在一个主轴上的反射镜支架上,并将干涉仪的其余光学组件与位于其上的探头结合在一起其他主轴。
机译:基于全内反射效应和外差干涉测量法的折射率测量
机译:激光外差干涉仪,使用单个参考后向反射镜同时测量位移和角度
机译:绝对长度测量干涉仪使用光学频率梳激光的外差信号(第6次报告) - 使用一种光学梳和三个激光二极管的节拍信号的超外差干涉仪
机译:通过干涉测量和外差相锁定方法共相配一系列分段激光器
机译:外差式激光干涉仪中由幻影反射引起的非线性误差及其与光学混合的耦合
机译:由于幽灵反射和其与外差激光干涉仪中光学混合引起的非线性误差
机译:电子外差云纹反射计:一种瞬态和三维密度场测量方法