公开/公告号CN112020674A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-12-01
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN201980028080.2
申请日2019-04-10
分类号G03F7/20(20060101);G02B5/10(20060101);G02B7/18(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王益
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2023-06-19 09:03:00
机译: 光学元件例如反射镜,一种用于微光刻的表面处理方法,包括以流体束的形式辐射流体到被处理的光学元件表面,并在区域内自由移动流体束和表面
机译: 用于检查钻孔表面的光学传感器,具有光导体,辐射源,耦合元件和偏转体,它们的布置使得通过物体的反射而无需分束器就可以产生出射出的辐射束
机译: 用于测试井眼表面的光学探头,具有设置在探头主体中以反射辐射束的辐射偏转体,以及排放反射的辐射束的辐射出口。