滤波器单元，包括该滤波器单元的基板处理设备和基板处理方法

摘要

公开了一种基板处理设备。基板处理设备可包括：腔室，在腔室中限定有处理空间；支撑单元，用于将基板支撑在处理空间中；加热器电源，其用于向支撑单元中的加热器施加电力；以及高频电源，用于将高频电力施加到支撑单元中的下部电极；以及滤波器单元，其安装在用于将加热器电源与加热器连接的线路处以防止高频流入。滤波器单元可包括：壳体；壳体中的一个或多个线圈；以及设置在壳体与线圈之间的调节构件。调节构件可以由非磁性材料制成。调节构件可以以预定间隔与线圈间隔开，并且与壳体的内壁间隔开或者与壳体的内壁接触。