首页> 中国专利> 碎片样品的平面扩展方法以及平面扩展的碎片样品

碎片样品的平面扩展方法以及平面扩展的碎片样品

摘要

本发明公开了一种碎片样品的平面扩展方法以及平面扩展的碎片样品。其中,该方法包括:获取第一平面衬底和第二平面衬底,其中,第一平面衬底和第二平面衬底均为表面光滑且尺寸大于所述碎片样品的尺寸的平面衬底;将碎片样品放置于第一平面衬底上;获取夹具,夹具具有中空设置,中空设置用于容置碎片样品;将夹具压置于第一平面衬底上,且夹具的中空设置套置于碎片衬底上;在夹具的中空设置处涂敷填充物;将第二平面衬底压置于夹具上;剥离第一平面衬底和第二平面衬底,得到平面扩展后的碎片样品。该方法实现简单,提高了匀胶工艺中小尺寸碎片样品特别是小尺寸样品边缘光刻胶的均匀性,并使得碎片样品兼容现有晶圆加工设备,降低了加工成本。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号