一种用于玻璃基底的增透减反复合膜及其制备方法

摘要

本发明提供一种用于玻璃基底的增透减反复合膜及其制备方法，该方法先通过离子束进行基片轰击，然后通过离子源辅助磁控溅射的方法分别制备掺钨VO2薄膜层、Si3N4薄膜层（3）以及SiO2薄膜层（4），最后通过紫外高温烘烤，得到由七层薄膜层结构组成的增透减反复合膜；该七层薄膜层结构从玻璃基底（1）表面向外依次为第一掺钨VO2薄膜层（21）、Si3N4薄膜层（3）、第二掺钨VO2薄膜层（22）、Si3N4薄膜层（3）、第三掺钨VO2薄膜层（23）、Si3N4薄膜层（3）以及SiO2薄膜层（4）。本发明制得的复合膜有效解决现有技术中低反射率和高力学性能不能同时兼顾的问题，具有较小的吸收、散射和反射特性，可见光透性好；薄膜结构牢固稳定、不易脱落。