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一种铈掺杂的氧化锆薄膜的制备方法及其在制备晶体管中的应用

摘要

本发明属于薄膜晶体管制备技术领域,具体涉及一种铈掺杂的氧化锆薄膜的制备方法及其在制备晶体管中的应用,为研制高介电常数、低漏电流的介电层薄膜,本发明提供了一种铈掺杂的氧化锆薄膜的制备方法,即将锆源和铈源溶于有机溶剂中,预先制备锆铈氧化物前驱体溶液,最后涂覆在衬底上进行热处理制得,所制备的铈掺杂的氧化锆薄膜表面平整、致密,电学性能好,应用于制备薄膜晶体管领域,具备较好的击穿特性,更低的漏电流密度。同时,本发明的铈掺杂的氧化锆薄膜晶体管结构简单,制备工艺简便,易于推广。

著录项

  • 公开/公告号CN111834230A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华南师范大学;

    申请/专利号CN202010571464.3

  • 发明设计人 陆旭兵;李长灏;

    申请日2020-06-22

  • 分类号H01L21/473(20060101);H01L29/786(20060101);H01L21/34(20060101);

  • 代理机构44572 广州正明知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人成姗

  • 地址 510000 广东省广州市番禺区广州大学城外环西路378号华南师范大学华南先进光电子研究院

  • 入库时间 2023-06-19 08:41:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-01-13

    授权

    发明专利权授予

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