公开/公告号CN111769425A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-13
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院上海光学精密机械研究所;
申请/专利号CN202010580234.3
申请日2020-06-23
分类号H01S3/00(20060101);H01S3/10(20060101);H01S3/101(20060101);G02B5/18(20060101);
代理机构31317 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人张宁展
地址 201800 上海市嘉定区清河路390号
入库时间 2023-06-19 08:31:50
机译: 用于光谱过滤的衍射光栅结构,具有该衍射光栅结构的x射线系统以及用于光谱过滤的方法,用于执行该方法的计算机程序,存储该程序的计算机可读介质
机译: 提供用于X射线束的光谱过滤的掩模版,X射线系统,用于X射线束的光谱过滤的方法,计算机程序以及用于X射线束的计算机可读介质
机译: 使用相互作用体积测量纳米区域中表面层的厚度。在光栅电子显微镜和能量色散X射线光谱学中由一次电子束产生。