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一种避免泵浦光漂白被动调Q晶体的微片激光器

摘要

本发明公开了一种避免泵浦光漂白被动调Q晶体的微片激光器,包括泵浦源、泵浦耦合系统、增益介质、抑制ASE晶体、被动调Q晶体、泵浦光和激光分离结构。在微片激光器一侧切45°角结构,泵浦光和激光通过此面的膜被分离开,避免了泵浦光对被动调Q晶体的漂白。通过热键和技术,各晶体有效牢固地结合,可提高激光器的稳定性,利于实现微片激光器的小型化。且键合后的晶体结合界面稳定,有利于晶体散热。本发明广泛应用于其他测距用的固体激光器中,易于实现小型化、大能量、窄脉宽的目标,易于实现工程应用。本发明完全避免泵浦光进入可饱和吸收调Q晶体中,从而避免了泵浦漂白问题,提高振荡激光输出的单脉冲能量,减小脉冲宽度。

著录项

  • 公开/公告号CN111769434A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京工业大学;

    申请/专利号CN202010541050.6

  • 申请日2020-06-15

  • 分类号H01S3/11(20060101);H01S3/16(20060101);H01S3/06(20060101);

  • 代理机构11203 北京思海天达知识产权代理有限公司;

  • 代理人沈波

  • 地址 100124 北京市朝阳区平乐园100号

  • 入库时间 2023-06-19 08:31:50

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