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用于预测投影系统中的像差的测量装置和方法

摘要

一种用于校准投影系统加热模型以预测光刻装置中的投影系统中的像差的方法,该方法包括:使曝光辐射通过投影系统,以曝光在衬底台上设置的衬底上的一个或多个曝光场,对由曝光辐射导致的投影系统中的像差进行测量,其中测量之间的时间段小于曝光衬底上的所有曝光场所花费的时间段。

著录项

  • 公开/公告号CN111758076A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201980015239.7

  • 申请日2019-01-28

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人董莘

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2023-06-19 08:28:36

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