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一种三异丙基硅乙炔修饰的脱氧胞苷亚磷酰胺单体及其制备方法与应用

摘要

本发明公开了一种三异丙基硅乙炔修饰的脱氧胞苷亚磷酰胺单体及其制备方法与应用。本发明三异丙基硅乙炔修饰的脱氧胞苷亚磷酰胺单体的化学结构式为:式Ⅰ中,DMTr‑为4,4’‑二甲氧基三苯甲基,N(i‑Pr)2‑为N,N‑二异丙基胺基。其制备方法是将5‑I‑脱氧胞苷中5’端基保护,然后对其氨基进行保护,再将碱基5号位引入三异丙基硅乙炔进行修饰,然后将其脱氧胞苷引入亚磷酰胺得到三异丙基硅乙炔修饰的脱氧胞苷亚磷酰胺单体。本发明所述式Ⅰ所示的三异丙基硅乙炔修饰的脱氧胞苷亚磷酰胺单体应用于制备寡核苷酸中。本发明一种寡核苷酸可由包括上述式Ⅰ所示的三异丙基硅乙炔修饰的脱氧胞苷亚磷酰胺单体通过DNA固相合成法制成。本发明制备方法简单,能用于制备稳态与瞬态红外光谱结构探针。

著录项

  • 公开/公告号CN111732623A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院化学研究所;

    申请/专利号CN202010618733.7

  • 发明设计人 王建平;董田田;

    申请日2020-06-30

  • 分类号C07H23/00(20060101);C07H1/00(20060101);G01N21/3563(20140101);

  • 代理机构11245 北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人关畅

  • 地址 100190 北京市海淀区中关村北一街2号

  • 入库时间 2023-06-19 08:28:36

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