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公开/公告号CN111736442A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-02
原文格式PDF
申请/专利权人 北京理工大学;
申请/专利号CN202010533214.0
发明设计人 黄玲玲;周宏强;王涌天;李晓炜;
申请日2020-06-12
分类号G03H1/04(20060101);G03H1/02(20060101);
代理机构11639 北京正阳理工知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人张利萍
地址 100081 北京市海淀区中关村南大街5号
入库时间 2023-06-19 08:27:06
机译: 单焦透镜系统,具有单焦透镜系统的成像装置,以及具有成像装置的移动体
机译: 用于产生双凸透镜图像的双凸透镜滚筒导向器的制备方法,以及用于在双凸透镜打印机的滚筒导向器中转换标准印刷滚筒的套件以及用于双凸透镜印刷的循环的圆柱导向器的制备方法
机译: 一种制备部分单次电子束曝光掩模的方法和一种使用该部分单次电子束曝光掩模直接绘制图案的方法。
机译:自旋选择性超颖表面全息图产生的超小旋涡结。
机译:双侧单焦透镜双侧植入多侧植入多侧型单焦点晶状体后视觉结果和阅读性能的比较
机译:双焦膜舒适性LS-313MF15晶状体(Oculutis(R))和单焦透镜插入术治疗术治疗脑膜膜膜治疗患者中间视力的比较。
机译:二次谐波产生的铌酸锂超颖表面
机译:单曝光和双曝光光学微光刻的掩模设计:逆成像方法
机译:可编程的超颖表面:偏振控制的双可编程超颖表面(Adv。Sci。11/2020)
机译:单焦透镜植入单焦透镜植入后囊张力环胶囊张力环对白内障手术后临床结果的影响
机译:用于单次曝光和多次曝光全息图的各种漂白过程的评估