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一种纳米级波带片成像分辨率测试的方法及装置

摘要

本发明公开了一种纳米级波带片成像分辨率测试的方法及装置。本装置包括X射线光源、聚焦镜、标准分辨率板和成像探测器;其中,根据待测波带片的设计分辨率,选择匹配的成像探测器放置在该待测波带片的像平面上;根据该待测波带片的设计分辨率,选择匹配的标准分辨率板并将其放置在该待测波带片的物平面上;所述X射线光源用于经所述聚焦镜照明该标准分辨率板,透过该标准分辨率板的光线经该待测波带片成像于所述成像探测器。本装置可以最直观的检测成像波带片的分辨率和分析其衍射效率。

著录项

  • 公开/公告号CN111721784A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院高能物理研究所;

    申请/专利号CN202010499019.0

  • 发明设计人 王山峰;袁清习;张凯;黄万霞;

    申请日2020-06-04

  • 分类号G01N23/04(20180101);G01N23/20(20180101);

  • 代理机构11200 北京君尚知识产权代理有限公司;

  • 代理人司立彬

  • 地址 100049 北京市海淀区玉泉路19号乙

  • 入库时间 2023-06-19 08:25:29

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