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多值忆阻器、多值忆阻器阵列及其制备工艺

摘要

本发明提供了一种多值忆阻器、多值忆阻器阵列及其制备工艺,包括衬底,相对设置于衬底上的第一电极以及第二电极,所述多值忆阻器还包括设置于衬底上的功能层,所述功能层位于第一电极以及第二电极之间,且第一电极以及第二电极和功能层接触连接,所述第一电极以及第二电极各自包括相对且接近的前端以及互相远离的后端,其中第一电极和/或第二电极自其前端至后端的宽度呈递增趋势。本发明设计具有前窄后宽的忆阻器电极对有助于降低忆阻器导电丝形成的随机性,提高了忆阻器的一致性;导电细丝的个数和外加电压有关,增加了忆阻器的电阻状态数;基于导电丝的忆阻器具有很好的非易失性。

著录项

  • 公开/公告号CN111710779A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202010734299.9

  • 申请日2020-07-27

  • 分类号H01L45/00(20060101);H01L27/24(20060101);

  • 代理机构32412 苏州三英知识产权代理有限公司;

  • 代理人黄晓明

  • 地址 215131 江苏省苏州市相城区青龙港路58号天成时代商务广场31层

  • 入库时间 2023-06-19 08:23:55

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